ChemistryQ501–516 of 843 questions
Page 11 of 11 · Hindi
501
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तापमान और दबाव की समान परिस्थितियों में निम्नलिखित में से कौन सी गैस ठोस पर सबसे कम अधिशोषित होती है?
A
$Cl_2$
B
$NH_3$
C
$SO_2$
D
$H_2$
Solution
(D) ठोस सतह पर गैस के अधिशोषण की मात्रा गैस के द्रवीकरण की सुगमता पर निर्भर करती है। जो गैसें आसानी से द्रवित हो जाती हैं,उनका क्रांतिक तापमान $(T_c)$ अधिक होता है और वे मजबूत वान डर वाल्स बलों के कारण अधिक मजबूती से अधिशोषित होती हैं।
दी गई गैसों में,$H_2$ का क्रांतिक तापमान $(T_c \approx 33 \ K)$ सबसे कम है,जबकि $Cl_2$,$NH_3$ और $SO_2$ का क्रांतिक तापमान काफी अधिक है।
चूंकि $H_2$ को द्रवित करना सबसे कठिन है,इसलिए यह ठोस सतह पर सबसे कम अधिशोषित होती है।
दी गई गैसों में,$H_2$ का क्रांतिक तापमान $(T_c \approx 33 \ K)$ सबसे कम है,जबकि $Cl_2$,$NH_3$ और $SO_2$ का क्रांतिक तापमान काफी अधिक है।
चूंकि $H_2$ को द्रवित करना सबसे कठिन है,इसलिए यह ठोस सतह पर सबसे कम अधिशोषित होती है।
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502
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निम्नलिखित में से कौन सा केमिसॉर्प्शन (रासायनिक अधिशोषण) का लक्षण नहीं है?
A
यह विशिष्ट होता है।
B
मुक्त होने वाली ऊष्मा $40-200 \ kJ/mol$ की सीमा में होती है।
C
अधिशोष्य की बहु-आणविक परत का निर्माण।
D
यह अनुत्क्रमणीय (irreversible) है।
Solution
(C) केमिसॉर्प्शन (रासायनिक अधिशोषण) में अधिशोष्य और अधिशोषक के बीच मजबूत रासायनिक बंधों का निर्माण होता है।
$1$. यह प्रकृति में अत्यधिक विशिष्ट होता है।
$2$. अधिशोषण की एन्थैल्पी उच्च होती है,आमतौर पर $40-200 \ kJ/mol$ की सीमा में।
$3$. यह एक अनुत्क्रमणीय प्रक्रिया है।
$4$. केमिसॉर्प्शन के परिणामस्वरूप एक एक-आणविक (unimolecular) परत का निर्माण होता है,न कि बहु-आणविक (multimolecular) परत का।
अतः,बहु-आणविक परत का निर्माण भौतिक अधिशोषण (physisorption) का लक्षण है,केमिसॉर्प्शन का नहीं।
$1$. यह प्रकृति में अत्यधिक विशिष्ट होता है।
$2$. अधिशोषण की एन्थैल्पी उच्च होती है,आमतौर पर $40-200 \ kJ/mol$ की सीमा में।
$3$. यह एक अनुत्क्रमणीय प्रक्रिया है।
$4$. केमिसॉर्प्शन के परिणामस्वरूप एक एक-आणविक (unimolecular) परत का निर्माण होता है,न कि बहु-आणविक (multimolecular) परत का।
अतः,बहु-आणविक परत का निर्माण भौतिक अधिशोषण (physisorption) का लक्षण है,केमिसॉर्प्शन का नहीं।
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503
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निम्नलिखित में से कौन सा ठोस पर गैस के अधिशोषण के लिए फ्रुंडलिच के अनुभवजन्य समीकरण को दर्शाता है (जहाँ $n > 1$)?
A
$x/m = k p^{1/n}$
B
$m/x = k p^{1/n}$
C
$x/m = k p^n$
D
$m/x = k p^n$
Solution
(A) फ्रुंडलिच अधिशोषण समतापी,अधिशोषक के प्रति इकाई द्रव्यमान पर अधिशोषित गैस की मात्रा और स्थिर तापमान पर गैस के दबाव के बीच एक अनुभवजन्य संबंध है।
इसे समीकरण $x/m = k p^{1/n}$ द्वारा व्यक्त किया जाता है,जहाँ $x$ अधिशोषित गैस का द्रव्यमान है,$m$ अधिशोषक का द्रव्यमान है,$p$ संतुलन दबाव है,और $k$ तथा $n$ स्थिरांक हैं जो एक विशेष तापमान पर अधिशोषक और गैस की प्रकृति पर निर्भर करते हैं।
अधिशोषण प्रक्रिया के लिए,$n$ का मान आमतौर पर $1$ से अधिक होता है,जिसका अर्थ है कि $1/n$ का मान $0$ और $1$ के बीच होता है।
इसे समीकरण $x/m = k p^{1/n}$ द्वारा व्यक्त किया जाता है,जहाँ $x$ अधिशोषित गैस का द्रव्यमान है,$m$ अधिशोषक का द्रव्यमान है,$p$ संतुलन दबाव है,और $k$ तथा $n$ स्थिरांक हैं जो एक विशेष तापमान पर अधिशोषक और गैस की प्रकृति पर निर्भर करते हैं।
अधिशोषण प्रक्रिया के लिए,$n$ का मान आमतौर पर $1$ से अधिक होता है,जिसका अर्थ है कि $1/n$ का मान $0$ और $1$ के बीच होता है।
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504
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निम्नलिखित में से किसे बहुआणविक (multimolecular) कोलाइड के रूप में वर्गीकृत किया गया है?
A
स्टार्च
B
सेलुलोज
C
$S_8$ सल्फर अणु
D
प्लास्टिक
Solution
(C) बहुआणविक कोलाइड $1 \ nm$ से कम व्यास वाले परमाणुओं या छोटे अणुओं के एकत्रीकरण से बनते हैं।
सल्फर सोल के मामले में,कणों में हजारों $S_8$ अणु होते हैं।
स्टार्च,सेलुलोज और प्लास्टिक मैक्रोमोलेक्युलर कोलाइड के उदाहरण हैं,क्योंकि ये उच्च आणविक द्रव्यमान वाले बड़े अणुओं से बने होते हैं।
सल्फर सोल के मामले में,कणों में हजारों $S_8$ अणु होते हैं।
स्टार्च,सेलुलोज और प्लास्टिक मैक्रोमोलेक्युलर कोलाइड के उदाहरण हैं,क्योंकि ये उच्च आणविक द्रव्यमान वाले बड़े अणुओं से बने होते हैं।
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505
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कोहरा किस प्रकार का कोलाइड है?
A
एरोसोल
B
झाग
C
जेल
D
पायस
Solution
(A) कोहरा एक प्रकार का कोलाइड है जिसमें द्रव गैस में परिक्षिप्त होता है।
इस प्रकार के कोलाइडल तंत्र को $Aerosol$ के रूप में वर्गीकृत किया जाता है।
इस प्रकार के कोलाइडल तंत्र को $Aerosol$ के रूप में वर्गीकृत किया जाता है।
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506
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निम्नलिखित में से किस पदार्थ को मैक्रोमोलेक्युलर कोलाइड के रूप में वर्गीकृत किया गया है?
A
साबुन
B
डिटर्जेंट
C
$S_8$ सल्फर अणु
D
नायलॉन
Solution
(D) मैक्रोमोलेक्युलर कोलाइड वे पदार्थ हैं जिनका आणविक द्रव्यमान बहुत अधिक होता है और जो उपयुक्त विलायक में घुलने पर कोलाइडल विलयन बनाते हैं।
इसके उदाहरणों में स्टार्च,सेलुलोज,प्रोटीन जैसे प्राकृतिक बहुलक और $Nylon$,$polythene$,$polystyrene$ जैसे कृत्रिम बहुलक शामिल हैं।
साबुन और डिटर्जेंट एसोसिएटेड कोलाइड (मिसेल) हैं,जबकि $S_8$ सल्फर अणु मल्टीमोलेक्युलर कोलाइड हैं।
इसलिए,$Nylon$ को मैक्रोमोलेक्युलर कोलाइड के रूप में वर्गीकृत किया गया है।
इसके उदाहरणों में स्टार्च,सेलुलोज,प्रोटीन जैसे प्राकृतिक बहुलक और $Nylon$,$polythene$,$polystyrene$ जैसे कृत्रिम बहुलक शामिल हैं।
साबुन और डिटर्जेंट एसोसिएटेड कोलाइड (मिसेल) हैं,जबकि $S_8$ सल्फर अणु मल्टीमोलेक्युलर कोलाइड हैं।
इसलिए,$Nylon$ को मैक्रोमोलेक्युलर कोलाइड के रूप में वर्गीकृत किया गया है।
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507
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निम्नलिखित में से कौन सा ऋणात्मक आवेशित सोल नहीं है?
A
$As_2S_3$
B
हीमोग्लोबिन
C
मिट्टी (Clay)
D
कोंगो रेड
Solution
(B) कोलाइडल कणों पर विद्युत आवेश होता है।
$As_2S_3$ (आर्सेनिक सल्फाइड) एक ज्ञात ऋणात्मक आवेशित सोल है।
मिट्टी भी एक ऋणात्मक आवेशित सोल है।
कोंगो रेड एक डाई है जो ऋणात्मक आवेशित सोल बनाती है।
हीमोग्लोबिन एक धनात्मक आवेशित सोल है क्योंकि यह एक प्रोटीन है जो अपने आइसोइलेक्ट्रिक बिंदु से नीचे के $pH$ पर धनात्मक आवेशित अवस्था में रहता है।
अतः,हीमोग्लोबिन ऋणात्मक आवेशित सोल नहीं है।
$As_2S_3$ (आर्सेनिक सल्फाइड) एक ज्ञात ऋणात्मक आवेशित सोल है।
मिट्टी भी एक ऋणात्मक आवेशित सोल है।
कोंगो रेड एक डाई है जो ऋणात्मक आवेशित सोल बनाती है।
हीमोग्लोबिन एक धनात्मक आवेशित सोल है क्योंकि यह एक प्रोटीन है जो अपने आइसोइलेक्ट्रिक बिंदु से नीचे के $pH$ पर धनात्मक आवेशित अवस्था में रहता है।
अतः,हीमोग्लोबिन ऋणात्मक आवेशित सोल नहीं है।
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508
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कोलाइडल विलयन के उस गुण को पहचानें जिसमें कोलाइडल कण एक लागू विद्युत विभव के तहत संबंधित इलेक्ट्रोड की ओर स्वतंत्र रूप से गति करते हैं।
A
ब्राउनियन गति
B
वैद्युत कण संचलन (Electrophoresis)
C
वैद्युत परासरण (Electroosmosis)
D
अपोहन (Dialysis)
Solution
(B) एक लागू विद्युत क्षेत्र के तहत कोलाइडल कणों की गति को $Electrophoresis$ कहा जाता है।
जब कोलाइडल विलयन में डूबे दो प्लैटिनम इलेक्ट्रोड पर विद्युत विभव लागू किया जाता है,तो कोलाइडल कण अपने आवेश के आधार पर एक या दूसरे इलेक्ट्रोड की ओर गति करते हैं।
$Brownian \ motion$ कणों की यादृच्छिक टेढ़ी-मेढ़ी गति को संदर्भित करता है।
$Electroosmosis$ विद्युत क्षेत्र के तहत परिक्षेपण माध्यम की गति को संदर्भित करता है।
$Dialysis$ कोलाइडल विलयन से अशुद्धियों को दूर करने की एक प्रक्रिया है।
जब कोलाइडल विलयन में डूबे दो प्लैटिनम इलेक्ट्रोड पर विद्युत विभव लागू किया जाता है,तो कोलाइडल कण अपने आवेश के आधार पर एक या दूसरे इलेक्ट्रोड की ओर गति करते हैं।
$Brownian \ motion$ कणों की यादृच्छिक टेढ़ी-मेढ़ी गति को संदर्भित करता है।
$Electroosmosis$ विद्युत क्षेत्र के तहत परिक्षेपण माध्यम की गति को संदर्भित करता है।
$Dialysis$ कोलाइडल विलयन से अशुद्धियों को दूर करने की एक प्रक्रिया है।
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509
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निम्नलिखित में से किस प्रक्रिया के परिणामस्वरूप स्कंदन (coagulation) नहीं होता है?
A
वैद्युतकणसंचलन (Electrophoresis)
B
अतिरिक्त विलायक मिलाने से
C
दो विपरीत आवेशित सॉल को मिलाने से
D
उबालने से
Solution
(B) स्कंदन कोलाइडल कणों को एकत्रित करके अवक्षेप बनाने की प्रक्रिया है।
$1$. वैद्युतकणसंचलन कणों को विपरीत आवेशित इलेक्ट्रोड की ओर ले जाता है और उन्हें उदासीन करता है,जिससे स्कंदन होता है।
$2$. दो विपरीत आवेशित सॉल को मिलाने से पारस्परिक स्कंदन होता है।
$3$. उबालने से कणों की गतिज ऊर्जा बढ़ जाती है,जिससे वे टकराते हैं और सुरक्षात्मक परत को पार कर जाते हैं,जिससे स्कंदन होता है।
$4$. अतिरिक्त विलायक मिलाने (तनुकरण) से स्कंदन नहीं होता है; वास्तव में,यह कणों के बीच की दूरी बढ़ाकर सॉल को स्थिर करता है।
$1$. वैद्युतकणसंचलन कणों को विपरीत आवेशित इलेक्ट्रोड की ओर ले जाता है और उन्हें उदासीन करता है,जिससे स्कंदन होता है।
$2$. दो विपरीत आवेशित सॉल को मिलाने से पारस्परिक स्कंदन होता है।
$3$. उबालने से कणों की गतिज ऊर्जा बढ़ जाती है,जिससे वे टकराते हैं और सुरक्षात्मक परत को पार कर जाते हैं,जिससे स्कंदन होता है।
$4$. अतिरिक्त विलायक मिलाने (तनुकरण) से स्कंदन नहीं होता है; वास्तव में,यह कणों के बीच की दूरी बढ़ाकर सॉल को स्थिर करता है।
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510
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निम्नलिखित में से कौन सा आयन धनावेशित सॉल के लिए अधिकतम स्कंदन क्षमता (coagulation power) प्रदर्शित करता है?
A
$SO_4^{2-}$
B
$Cl^{-}$
C
$PO_4^{3-}$
D
$\left[Fe(CN)_6\right]^{4-}$
Solution
(D) हार्डी-शुल्ज़ नियम के अनुसार,किसी आयन की स्कंदन क्षमता उसके आवेश के परिमाण के सीधे समानुपाती होती है।
धनावेशित सॉल के लिए,स्कंदन क्षमता ऋणायन की संयोजकता पर निर्भर करती है।
ऋणायन पर जितना अधिक ऋण आवेश होगा,उसकी स्कंदन क्षमता उतनी ही अधिक होगी।
दिए गए ऋणायनों पर आवेश इस प्रकार हैं:
$A: SO_4^{2-}$ (आवेश $-2$)
$B: Cl^{-}$ (आवेश $-1$)
$C: PO_4^{3-}$ (आवेश $-3$)
$D: [Fe(CN)_6]^{4-}$ (आवेश $-4$)
चूंकि आयन $\left[Fe(CN)_6\right]^{4-}$ में ऋण आवेश का परिमाण सबसे अधिक $(-4)$ है,इसलिए यह धनावेशित सॉल के लिए अधिकतम स्कंदन क्षमता प्रदर्शित करता है।
धनावेशित सॉल के लिए,स्कंदन क्षमता ऋणायन की संयोजकता पर निर्भर करती है।
ऋणायन पर जितना अधिक ऋण आवेश होगा,उसकी स्कंदन क्षमता उतनी ही अधिक होगी।
दिए गए ऋणायनों पर आवेश इस प्रकार हैं:
$A: SO_4^{2-}$ (आवेश $-2$)
$B: Cl^{-}$ (आवेश $-1$)
$C: PO_4^{3-}$ (आवेश $-3$)
$D: [Fe(CN)_6]^{4-}$ (आवेश $-4$)
चूंकि आयन $\left[Fe(CN)_6\right]^{4-}$ में ऋण आवेश का परिमाण सबसे अधिक $(-4)$ है,इसलिए यह धनावेशित सॉल के लिए अधिकतम स्कंदन क्षमता प्रदर्शित करता है।
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511
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निम्नलिखित में से ऋणात्मक आवेशित सोल की पहचान कीजिए।
A
इओसिन
B
टाइटेनियम ऑक्साइड
C
मेथिलीन ब्लू
D
हीमोग्लोबिन
Solution
(A) कोलाइड्स का वर्गीकरण परिक्षिप्त प्रावस्था के कणों पर आवेश के आधार पर किया जाता है।
$1$. ऋणात्मक आवेशित सोल में धातु सल्फाइड (जैसे,$As_2S_3$),अम्लीय रंजक (जैसे,इओसिन,कांगो रेड) और स्टार्च शामिल हैं।
$2$. धनात्मक आवेशित सोल में धातु हाइड्रॉक्साइड (जैसे,$Fe(OH)_3$),क्षारीय रंजक (जैसे,मेथिलीन ब्लू) और हीमोग्लोबिन जैसे प्रोटीन शामिल हैं।
$3$. टाइटेनियम ऑक्साइड $(TiO_2)$ को आमतौर पर धनात्मक आवेशित सोल माना जाता है।
अतः,इओसिन एक ऋणात्मक आवेशित सोल है।
$1$. ऋणात्मक आवेशित सोल में धातु सल्फाइड (जैसे,$As_2S_3$),अम्लीय रंजक (जैसे,इओसिन,कांगो रेड) और स्टार्च शामिल हैं।
$2$. धनात्मक आवेशित सोल में धातु हाइड्रॉक्साइड (जैसे,$Fe(OH)_3$),क्षारीय रंजक (जैसे,मेथिलीन ब्लू) और हीमोग्लोबिन जैसे प्रोटीन शामिल हैं।
$3$. टाइटेनियम ऑक्साइड $(TiO_2)$ को आमतौर पर धनात्मक आवेशित सोल माना जाता है।
अतः,इओसिन एक ऋणात्मक आवेशित सोल है।
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512
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नैनोमटेरियल्स की बंधन प्रकृति (binding nature) को जानने के लिए उपयोग की जाने वाली तकनीक की पहचान करें।
A
$SEM$
B
$TEM$
C
$XRD$
D
$FTIR$
Solution
(D) $FTIR$ (फूरियर ट्रांसफॉर्म इन्फ्रारेड स्पेक्ट्रोस्कोपी) वह तकनीक है जिसका उपयोग इन्फ्रारेड विकिरण के अवशोषण को मापकर नैनोमटेरियल्स के कार्यात्मक समूहों और बंधन प्रकृति की पहचान करने के लिए किया जाता है।
$SEM$ (स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी) का उपयोग सतह के आकारिकी (morphology) के लिए किया जाता है।
$TEM$ (ट्रांसमिशन इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी) का उपयोग आंतरिक संरचना और आकार के लिए किया जाता है।
$XRD$ (एक्स-रे विवर्तन) का उपयोग क्रिस्टल संरचना विश्लेषण के लिए किया जाता है।
$SEM$ (स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी) का उपयोग सतह के आकारिकी (morphology) के लिए किया जाता है।
$TEM$ (ट्रांसमिशन इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी) का उपयोग आंतरिक संरचना और आकार के लिए किया जाता है।
$XRD$ (एक्स-रे विवर्तन) का उपयोग क्रिस्टल संरचना विश्लेषण के लिए किया जाता है।
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513
ChemistryEasyMCQMHT CET · 2025
कण का आकार निर्धारित करने के लिए किस उपकरण का उपयोग किया जाता है?
A
$SEM$
B
$TEM$
C
$FTIR$
D
$UV$ दृश्य स्पेक्ट्रोस्कोपी
Solution
(B) $SEM$ (स्कैनिंग इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी) और $TEM$ (ट्रांसमिशन इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी) दोनों का उपयोग कण के आकार और आकृति को निर्धारित करने के लिए किया जाता है। हालाँकि,नैनोस्केल पर सटीक कण आकार माप के लिए $TEM$ को मानक तकनीक माना जाता है।
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514
ChemistryEasyMCQMHT CET · 2025
निम्नलिखित में से किस नैनोमटेरियल में तीनों आयाम $100 \ nm$ से कम होते हैं?
A
नैनोशेल्स
B
नैनोट्यूब्स
C
थिन फिल्म्स
D
फाइबर्स
Solution
(A) नैनोमटेरियल्स का वर्गीकरण उन आयामों की संख्या के आधार पर किया जाता है जो नैनोस्केल रेंज $(< 100 \ nm)$ से बाहर होते हैं।
$1$. $0-D$ नैनोमटेरियल्स: तीनों आयाम नैनोस्केल रेंज में होते हैं (जैसे,नैनोपार्टिकल्स,क्वांटम डॉट्स,नैनोशेल्स)।
$2$. $1-D$ नैनोमटेरियल्स: दो आयाम नैनोस्केल रेंज में होते हैं (जैसे,नैनोट्यूब्स,नैनोवायर,फाइबर्स)।
$3$. $2-D$ नैनोमटेरियल्स: एक आयाम नैनोस्केल रेंज में होता है (जैसे,थिन फिल्म्स,ग्राफीन)।
चूंकि नैनोशेल्स के तीनों आयाम $100 \ nm$ से कम होते हैं,इसलिए उन्हें $0-D$ नैनोमटेरियल्स के रूप में वर्गीकृत किया जाता है।
$1$. $0-D$ नैनोमटेरियल्स: तीनों आयाम नैनोस्केल रेंज में होते हैं (जैसे,नैनोपार्टिकल्स,क्वांटम डॉट्स,नैनोशेल्स)।
$2$. $1-D$ नैनोमटेरियल्स: दो आयाम नैनोस्केल रेंज में होते हैं (जैसे,नैनोट्यूब्स,नैनोवायर,फाइबर्स)।
$3$. $2-D$ नैनोमटेरियल्स: एक आयाम नैनोस्केल रेंज में होता है (जैसे,थिन फिल्म्स,ग्राफीन)।
चूंकि नैनोशेल्स के तीनों आयाम $100 \ nm$ से कम होते हैं,इसलिए उन्हें $0-D$ नैनोमटेरियल्स के रूप में वर्गीकृत किया जाता है।
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515
ChemistryMediumMCQMHT CET · 2025
कॉलम $I$ (प्रक्रिया) को कॉलम $II$ (अनुप्रयोग) के साथ सुमेलित करें।
| कॉलम $I$ | कॉलम $II$ |
|---|---|
| $A$. डायलिसिस | $a$. साबुन की सफाई क्रिया |
| $B$. पेप्टीकरण | $b$. स्कंदन |
| $C$. पायसीकरण | $c$. कोलाइडल विलयन की तैयारी |
| $D$. वैद्युत कण संचलन | $d$. कोलाइडल विलयन का शुद्धिकरण |
A
$A-d, B-c, C-a, D-b$
B
$A-d, B-c, C-b, D-a$
C
$A-c, B-b, C-d, D-a$
D
$A-b, B-c, C-a, D-d$
Solution
(A) . डायलिसिस एक ऐसी प्रक्रिया है जिसका उपयोग अर्ध-पारगम्य झिल्ली के माध्यम से इलेक्ट्रोलाइट्स को हटाकर कोलाइडल विलयनों को शुद्ध करने के लिए किया जाता है।
$B$. पेप्टीकरण ताजे बने अवक्षेप को उपयुक्त इलेक्ट्रोलाइट मिलाकर कोलाइडल सोल में बदलने की प्रक्रिया है।
$C$. पायसीकरण पायस को स्थिर करने की प्रक्रिया है,जो साबुन की सफाई क्रिया के पीछे का सिद्धांत है।
$D$. वैद्युत कण संचलन एक लागू विद्युत क्षेत्र के तहत कोलाइडल कणों की गति है,जो इलेक्ट्रोड पर उनके स्कंदन का कारण बनती है।
अतः,सही मिलान $A-d, B-c, C-a, D-b$ है।
$B$. पेप्टीकरण ताजे बने अवक्षेप को उपयुक्त इलेक्ट्रोलाइट मिलाकर कोलाइडल सोल में बदलने की प्रक्रिया है।
$C$. पायसीकरण पायस को स्थिर करने की प्रक्रिया है,जो साबुन की सफाई क्रिया के पीछे का सिद्धांत है।
$D$. वैद्युत कण संचलन एक लागू विद्युत क्षेत्र के तहत कोलाइडल कणों की गति है,जो इलेक्ट्रोड पर उनके स्कंदन का कारण बनती है।
अतः,सही मिलान $A-d, B-c, C-a, D-b$ है।
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516
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Sol-Gel प्रक्रिया में शामिल क्रमिक अभिक्रियाओं की पहचान करें।
A
पॉलीकंडेनसेशन और हाइड्रोलिसिस
B
हाइड्रोलिसिस और पॉलीकंडेनसेशन
C
पॉलीकंडेनसेशन और ऑक्सीकरण
D
ऑक्सीकरण और हाइड्रोलिसिस
Solution
(B) Sol-Gel प्रक्रिया छोटे अणुओं से ठोस सामग्री बनाने के लिए उपयोग की जाने वाली एक रासायनिक समाधान जमाव तकनीक है।
इसमें दो मुख्य क्रमिक चरण शामिल हैं:
$1$. हाइड्रोलिसिस: प्रीकर्सर (आमतौर पर धातु एल्कोक्साइड) हाइड्रॉक्सिल समूह बनाने के लिए पानी के साथ प्रतिक्रिया करता है।
$2$. पॉलीकंडेनसेशन: ये हाइड्रॉक्सिल समूह फिर धातु-ऑक्सीजन-धातु $(M-O-M)$ बॉन्ड का नेटवर्क बनाने के लिए कंडेनसेशन प्रतिक्रियाओं से गुजरते हैं,जिससे जेल का निर्माण होता है।
इसमें दो मुख्य क्रमिक चरण शामिल हैं:
$1$. हाइड्रोलिसिस: प्रीकर्सर (आमतौर पर धातु एल्कोक्साइड) हाइड्रॉक्सिल समूह बनाने के लिए पानी के साथ प्रतिक्रिया करता है।
$2$. पॉलीकंडेनसेशन: ये हाइड्रॉक्सिल समूह फिर धातु-ऑक्सीजन-धातु $(M-O-M)$ बॉन्ड का नेटवर्क बनाने के लिए कंडेनसेशन प्रतिक्रियाओं से गुजरते हैं,जिससे जेल का निर्माण होता है।
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