Nitrogen family Questions in Gujarati

(B) આઈસોઈલેક્ટ્રોનિક સ્પીસીઝ એટલે કે જેમાં ઈલેક્ટ્રોનની સંખ્યા સમાન હોય.
$CO_2$ માટે: કુલ ઈલેક્ટ્રોન = $6 + (8 \times 2) = 6 + 16 = 22$.
$N_2O$ માટે: કુલ ઈલેક્ટ્રોન = $(7 \times 2) + 8 = 14 + 8 = 22$.
$CO_2$ અને $N_2O$ બંનેમાં $22$ ઈલેક્ટ્રોન હોવાથી,તેઓ આઈસોઈલેક્ટ્રોનિક છે.
તેથી,સાચો વિકલ્પ $(B)$ છે.

(A) સાચું બંધારણ છે.
$H_3PO_4$ એ ઓર્થોફોસ્ફોરિક એસિડ છે.
તેના બંધારણમાં,ફોસ્ફરસ પરમાણુ એક ઓક્સિજન પરમાણુ સાથે દ્વિબંધ $(P=O)$ દ્વારા અને ત્રણ હાઇડ્રોક્સિલ સમૂહો $(-OH)$ સાથે એકલ બંધ દ્વારા જોડાયેલ હોય છે.
તેનું બંધારણ $H-O-P(=O)(OH)_2$ તરીકે દર્શાવવામાં આવે છે.

(A) સમૂહ $15$ ના તત્વોના હાઇડ્રાઇડ્સમાં બંધકોણ એ મધ્યસ્થ પરમાણુની વિદ્યુતઋણતા અને કદ પર આધાર રાખે છે.
જેમ આપણે સમૂહમાં $N$ થી $Sb$ તરફ નીચે જઈએ છીએ,તેમ મધ્યસ્થ પરમાણુની વિદ્યુતઋણતા ઘટે છે અને કદ વધે છે.
આના પરિણામે બંધકોણમાં ઘટાડો થાય છે.
તેથી,બંધકોણના ઘટતા ક્રમનો સાચો ક્રમ $NH_3 > PH_3 > AsH_3 > SbH_3$ છે.

(A) . નાઈટ્રોજન પાસે ખાલી $d-$કક્ષકો હોતી નથી,તેથી તે તેની અષ્ટક રચના વિસ્તારી શકતું નથી અને $5$ સહસંયોજક બંધ બનાવી શકતું નથી.
$P$ (ફોસ્ફરસ) પાસે ખાલી $3d-$કક્ષકો હોય છે,જે તેને $+5$ ઓક્સિડેશન અવસ્થા દર્શાવવા અને $PCl_5$ બનાવવા માટે સક્ષમ બનાવે છે.
નાઈટ્રોજનમાં $d-$કક્ષકોનો અભાવ હોવાથી,તેની મહત્તમ સહસંયોજકતા $4$ સુધી મર્યાદિત રહે છે,તેથી જ $NCl_5$ અસ્તિત્વ ધરાવતું નથી.

(B) શ્વેત ફોસ્ફરસ ચતુષ્ફલકીય $P_4$ અણુ તરીકે અસ્તિત્વ ધરાવે છે.
આ બંધારણમાં,દરેક ફોસ્ફરસ પરમાણુ અન્ય ત્રણ ફોસ્ફરસ પરમાણુઓ સાથે જોડાયેલ હોય છે.
ફોસ્ફરસની પરમાણ્વિયતા $(X)$ $4$ છે.
તણાવયુક્ત ચતુષ્ફલકીય ભૂમિતિને કારણે,$P-P-P$ બંધકોણ $(Y)$ $60^{\circ}$ છે.

(B) સમૂહ $15$ ના તત્વોના હાઇડ્રાઇડ્સનું ઉત્કલનબિંદુ સામાન્ય રીતે આણ્વીય દળ અને વાન્ડર વાલ્સ બળોમાં વધારાને કારણે સમૂહમાં નીચે તરફ જતાં વધે છે.
જોકે,$NH_3$ માં આંતરઆણ્વીય હાઇડ્રોજન બંધને કારણે તેનું ઉત્કલનબિંદુ અસામાન્ય રીતે ઊંચું હોય છે.
બાકીના હાઇડ્રાઇડ્સ ($PH_3$,$AsH_3$,$SbH_3$) માં,$PH_3$ નું આણ્વીય દળ સૌથી ઓછું છે અને તેથી તેમાં વાન્ડર વાલ્સ બળો સૌથી નબળા છે.
તેથી,$PH_3$ નું ઉત્કલનબિંદુ સૌથી ઓછું છે.

(B) સમૂહ $15$ ના તત્વોના હાઇડ્રાઇડની બેઝિકતા મધ્યસ્થ પરમાણુ પરના ઇલેક્ટ્રોનની અબંધકારક ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મની ઉપલબ્ધતા પર આધાર રાખે છે.
જેમ આપણે સમૂહમાં $N$ થી $P$ તરફ નીચે જઈએ છીએ,તેમ પરમાણુનું કદ વધે છે.
આના કારણે નાઇટ્રોજન પરમાણુની તુલનામાં ફોસ્ફરસ પરમાણુ પરનું અબંધકારક ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મ મોટા કદમાં ફેલાયેલું રહે છે.
પરિણામે,ફોસ્ફરસ પરમાણુ પર ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા ઓછી હોય છે,જે $PH_3$ ને $NH_3$ કરતા નિર્બળ લુઈસ બેઝ બનાવે છે.
તેથી,$PH_3$ એ $NH_3$ કરતા ઓછો બેઝિક છે.

(D) સમાન સમૂહના ઓક્સોએસિડની પ્રબળતા મધ્યસ્થ પરમાણુના ઓક્સિડેશન આંકમાં વધારા સાથે વધે છે અને સમૂહમાં નીચે તરફ જતાં પરમાણુ કદમાં વધારાને કારણે ઘટે છે.
$H_3PO_4$ અને $H_3AsO_4$ ની સરખામણી કરતાં,$P$ એ $As$ કરતા નાનું છે,તેથી $H_3PO_4$ વધુ પ્રબળ એસિડ છે.
$H_3PO_4$ અને $H_3PO_3$ ની સરખામણી કરતાં,$H_3PO_4$ નો ઓક્સિડેશન આંક $(+5)$ એ $H_3PO_3$ $(+3)$ કરતા વધારે છે,તેથી $H_3PO_4$ વધુ પ્રબળ છે.
આમ,આપેલા વિકલ્પોમાં $H_3PO_4$ સૌથી પ્રબળ એસિડ છે.

(D) લુઈસ બેઈઝ એ પદાર્થ છે જે ઈલેક્ટ્રોનની અબંધકારક ઈલેક્ટ્રોન યુગ્મ (lone pair) દાન કરી શકે છે.
સમૂહ $15$ ના હાઈડ્રાઈડ્સ $(NH_3, PH_3, AsH_3, SbH_3)$ માં,મધ્યસ્થ પરમાણુ પાસે એક અબંધકારક ઈલેક્ટ્રોન યુગ્મ હોય છે.
બેઝિક પ્રબળતા આ ઈલેક્ટ્રોન યુગ્મ દાન કરવાની ક્ષમતા પર આધાર રાખે છે.
જેમ આપણે સમૂહમાં નીચે જઈએ છીએ,તેમ મધ્યસ્થ પરમાણુનું કદ વધે છે અને ઈલેક્ટ્રોન યુગ્મ મોટી કક્ષકમાં હોવાથી તે દાન કરવા માટે ઓછું ઉપલબ્ધ બને છે.
તેથી,$NH_3$ સૌથી પ્રબળ લુઈસ બેઈઝ છે.

(D) નાઈટ્રોજન હેલાઈડની બેઝિકતા નાઈટ્રોજન પરમાણુ પરના અબંધકારક ઈલેક્ટ્રોન યુગ્મની પ્રાપ્યતા પર આધાર રાખે છે.
$NF_3$ માં,ફ્લોરિન પરમાણુ અત્યંત વિદ્યુતઋણ છે.
તે પ્રબળ $-I$ અસર દર્શાવે છે,જે નાઈટ્રોજન પરમાણુ પરના અબંધકારક ઈલેક્ટ્રોન યુગ્મની ઘનતાને પોતાની તરફ ખેંચે છે.
આ ઈલેક્ટ્રોન યુગ્મની દાન કરવાની ક્ષમતામાં નોંધપાત્ર ઘટાડો કરે છે,જેનાથી $NF_3$ નાઈટ્રોજન હેલાઈડ્સમાં સૌથી ઓછો બેઝિક બને છે.
જેમ હેલોજનની વિદ્યુતઋણતા $F$ થી $I$ તરફ ઘટે છે,તેમ $-I$ અસર ઘટે છે અને બેઝિકતા વધે છે.

(B) નાઈટ્રોજનની ઇલેક્ટ્રોનિક રચના $1s^2 2s^2 2p^3$ છે.
તેની બાહ્યતમ કક્ષામાં $5$ સંયોજકતા ઇલેક્ટ્રોન છે.
જ્યારે તે ઓક્સિજન અથવા ફ્લોરિન જેવા વધુ વિદ્યુતઋણ તત્વો સાથે જોડાય છે ત્યારે તે $5$ ઇલેક્ટ્રોન ગુમાવીને $+5$ ઓક્સિડેશન અવસ્થા પ્રાપ્ત કરી શકે છે.
તે તેનું અષ્ટક પૂર્ણ કરવા માટે $3$ ઇલેક્ટ્રોન મેળવી શકે છે,જેના પરિણામે $-3$ ઓક્સિડેશન અવસ્થા મળે છે.
તેથી,નાઈટ્રોજન $-3$ થી $+5$ સુધીની ઓક્સિડેશન અવસ્થાઓ દર્શાવે છે.

(A) $H_3PO_3$ નું બંધારણ $(HO)_2P(O)H$ છે. તેમાં બે $P-OH$ બંધ હોવાથી તે દ્વિ-બેઝિક છે.
તેમાં એક $P-H$ બંધ પણ હોય છે,જે તેને રિડક્શનકર્તા બનાવે છે.
તેની સામે,$H_3PO_4$ નું બંધારણ $(HO)_3P(O)$ છે,જે ત્રિ-બેઝિક છે અને બિન-રિડક્શનકર્તા છે કારણ કે તેમાં $P-H$ બંધ હોતા નથી.

(B) અર્ધધાતુ એ એવું તત્વ છે જે ધાતુ અને અધાતુ બંનેના ગુણધર્મો દર્શાવે છે. આપેલા વિકલ્પોમાંથી,$Sb$ (એન્ટિમની) એક જાણીતી અર્ધધાતુ છે. $Pb$ (સીસું) અને $Bi$ (બિસ્મથ) એ પોસ્ટ-ટ્રાન્ઝિશન ધાતુઓ છે,અને $Zn$ (ઝિંક) એ સંક્રાંતિ ધાતુ છે.

(A) $VA$ સમૂહમાં નીચે તરફ જતાં તત્વોનો ધાત્વીય ગુણધર્મ વધે છે.
એસિડિક ગુણધર્મ એ ધાત્વીય ગુણધર્મના વ્યસ્ત પ્રમાણમાં હોવાથી,તેમના પેન્ટોક્સાઇડની એસિડિકતા સમૂહમાં નીચે તરફ જતાં ઘટે છે.

(D) જોકે નાઈટ્રોજન અને ફોસ્ફરસ એક જ સમૂહ $(15)$ ના છે,નાઈટ્રોજન તેની સંયોજકતા કક્ષામાં $d$-ઓર્બિટલ્સની ગેરહાજરીને કારણે પેન્ટાવેલેન્સી દર્શાવી શકતું નથી.
ફોસ્ફરસ કદમાં મોટું હોવાથી,તેમાં $d$-ઓર્બિટલ્સ ઉપલબ્ધ હોય છે અને ઇલેક્ટ્રોનને સમાવવાની ક્ષમતા વધુ હોય છે,જે તેની પેન્ટાવેલેન્ટ અવસ્થાને વધુ સ્થાયી બનાવે છે.

(B) થેલિયમ એ $p$-બ્લોકનું તત્વ છે જે સમૂહ $13$ અને આવર્ત $6$ માં આવેલું છે.
થેલિયમની ઇલેક્ટ્રોન રચના $[Xe] \, 4f^{14} \, 5d^{10} \, 6s^2 \, 6p^1$ છે.
આંતરિક કક્ષકોના $d$ અને $f$ ઇલેક્ટ્રોન નબળી શીલ્ડિંગ અસર આપે છે,જેના કારણે કેન્દ્રનું $6s^2$ ઇલેક્ટ્રોન પરનું આકર્ષણ વધે છે,જેથી તેઓ બંધ બનાવવામાં ભાગ લેતા નથી. આ ઘટનાને નિષ્ક્રિય યુગ્મ અસર (inert pair effect) કહેવામાં આવે છે.
આ અસરને કારણે,$6s^2$ ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મિત રહે છે,જ્યારે $6p^1$ ઇલેક્ટ્રોન સરળતાથી દૂર થાય છે,જે $+1$ ઓક્સિડેશન અવસ્થા તરફ દોરી જાય છે. થેલિયમ માટે $+3$ અવસ્થા પણ શક્ય છે પરંતુ $+1$ અવસ્થા વધુ સ્થાયી છે.

(B) $Zn$ (ઝિંક) એક ઉભયગુણી ધાતુ છે જે $NaOH$ (કોસ્ટિક સોડા) ના ઉકળતા દ્રાવણ સાથે પ્રક્રિયા કરીને સોડિયમ ઝિંકેટ અને હાઇડ્રોજન વાયુ ઉત્પન્ન કરે છે.
રાસાયણિક સમીકરણ નીચે મુજબ છે:
$Zn + 2NaOH + 2H_2O \to Na_2[Zn(OH)_4] + H_2 \uparrow$

(B) જ્યારે $Sn$ (ટીન) ગરમ સાંદ્ર $NaOH$ ના દ્રાવણ સાથે પ્રક્રિયા કરે છે,ત્યારે તે સોડિયમ સ્ટેનેટ $(Na_2SnO_3)$ બનાવે છે અને હાઇડ્રોજન વાયુ મુક્ત કરે છે.
સંતુલિત રાસાયણિક સમીકરણ નીચે મુજબ છે:
$Sn + 2NaOH + H_2O \to Na_2SnO_3 + 2H_2$.

(D) ફોસ્ફિન $(PH_3)$ ધાતુના ફોસ્ફાઇડના જળવિભાજન દ્વારા તૈયાર કરવામાં આવે છે.
$1$. કેલ્શિયમ ફોસ્ફાઇડ $(Ca_3P_2)$ પાણી સાથે પ્રક્રિયા કરીને ફોસ્ફિન ઉત્પન્ન કરે છે:
$Ca_3P_2 + 6H_2O \to 3Ca(OH)_2 + 2PH_3$
$2$. પોટેશિયમ ફોસ્ફાઇડ $(K_3P)$ પણ પાણી સાથે પ્રક્રિયા કરીને ફોસ્ફિન ઉત્પન્ન કરે છે:
$K_3P + 3H_2O \to 3KOH + PH_3$
તેથી,$(b)$ અને $(c)$ બંને સાચા છે.

(A) ગેલિયમ એક રૂપેરી,નરમ ધાતુ છે.
તેનું ગલનબિંદુ $29.76\ ^oC$ જેટલું ખૂબ નીચું છે,જે ઓરડાના તાપમાનની નજીક છે.
તે તાપમાનની વિશાળ શ્રેણીમાં પ્રવાહી અવસ્થામાં રહેતું હોવાથી,તેનો ઉપયોગ ઉચ્ચ-તાપમાનના થર્મોમીટરમાં થાય છે.
તેથી,સાચી ધાતુ ગેલિયમ છે.

(C) જ્યારે એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઇડ $(Al_2O_3)$ અને કાર્બન $(C)$ ને સૂકા ક્લોરિન વાયુ $(Cl_2)$ ના પ્રવાહમાં સખત ગરમ કરવામાં આવે છે,ત્યારે પ્રક્રિયા નીચે મુજબ થાય છે:
$Al_2O_3 + 3C + 3Cl_2 \xrightarrow{\Delta} 2AlCl_3 + 3CO$
ઉત્પન્ન થતી નીપજ નિર્જળ (anhydrous) એલ્યુમિનિયમ ક્લોરાઇડ $(AlCl_3)$ છે.

(C) એલ્યુમિનિયમ ધાતુ પર હવાની ઓક્સિજન સાથેની પ્રતિક્રિયાને કારણે એલ્યુમિનિયમ ઓક્સાઈડ $(Al_2O_3)$ નું પાતળું અને નિષ્ક્રિય રક્ષણાત્મક પડ બને છે,તેથી કોઈપણ સાંદ્રતાના નાઈટ્રિક એસિડ દ્વારા એલ્યુમિનિયમ ધાતુ પર અસર થતી નથી.

(D) $PbO_2$ એ એક એમ્ફોટેરિક (ઉભયગુણી) ઓક્સાઈડ છે કારણ કે તે એસિડ અને બેઝ બંને સાથે પ્રતિક્રિયા આપે છે.
ઉદાહરણ તરીકે,તે $HCl$ સાથે પ્રતિક્રિયા આપીને $PbCl_2$ બનાવે છે અને $NaOH$ સાથે પ્રતિક્રિયા આપીને સોડિયમ પ્લમ્બેટ $(Na_2PbO_3)$ બનાવે છે.

(B) $p-$વિભાગના તત્વોના $6^{th}$ અને $7^{th}$ આવર્ત માટે નિષ્ક્રિય યુગ્મ અસર નોંધપાત્ર બને છે. $d$ અને $f$ કક્ષકોના નબળા શીલ્ડિંગને કારણે,$ns^2$ ઇલેક્ટ્રોન કેન્દ્ર દ્વારા મજબૂતીથી પકડાયેલા રહે છે અને બંધનમાં ભાગ લેતા નથી,જેનાથી $Tl$ માટે $+3$ અવસ્થા કરતા $+1$ ઓક્સિડેશન અવસ્થા વધુ સ્થિર બને છે.

(C) લેપિસ લાઝુલી એ એક ઘેરા વાદળી રંગનો રૂપાંતરિત ખડક છે જેનો ઉપયોગ અર્ધ-કિંમતી પથ્થર તરીકે થાય છે.
તે મુખ્યત્વે લેઝુરાઈટ ખનિજથી બનેલું છે,જે સલ્ફર ધરાવતું સોડિયમ એલ્યુમિનો સિલિકેટ છે.
તેનું રાસાયણિક બંધારણ આશરે $3Na_2O \cdot 3Al_2O_3 \cdot 6SiO_2 \cdot 2Na_2S$ છે.

(C) જ્યારે ટીન $(Sn)$ સાંદ્ર નાઈટ્રિક એસિડ $(HNO_3)$ સાથે પ્રક્રિયા કરે છે,ત્યારે તેનું ઓક્સિડેશન થઈને મેટાસ્ટેનિક એસિડ $(H_2SnO_3)$ બને છે.
રાસાયણિક સમીકરણ નીચે મુજબ છે:
$Sn + 4HNO_3 \to H_2SnO_3 + 4NO_2 + H_2O$

(A) લિથાર્જ એ લેડ$(II)$ ઓક્સાઈડ,$PbO$ નું એક કુદરતી ખનિજ સ્વરૂપ છે.
લિથાર્જ એ ગલેના અયસ્કોના ઓક્સિડેશનથી બનતું ગૌણ ખનિજ છે.

(D) લેડ $(II, IV)$ ઓક્સાઈડ,જેને રેડ લેડ અથવા ટ્રાયપ્લમ્બિક ટેટ્રોક્સાઈડ તરીકે પણ ઓળખવામાં આવે છે,તે તેજસ્વી લાલ અથવા નારંગી રંગદ્રવ્ય છે.
રાસાયણિક રીતે,તે $Pb_3O_4$ તરીકે દર્શાવવામાં આવે છે,જેને $2PbO \cdot PbO_2$ તરીકે પણ લખી શકાય છે.
તેનો ઉપયોગ લેડ ગ્લાસ,કાટ-પ્રૂફ પેઇન્ટ અને $Sindhur$ (સિંદૂર) બનાવવામાં વ્યાપકપણે થાય છે.

(B) $I_2$,$N_2$,અને $O_2$ જેવા તત્વો સ્થાયી દ્વિપરમાણ્વીય અણુઓ તરીકે અસ્તિત્વ ધરાવે છે.
ફોસ્ફરસ,તેના નાના કદ અને અબંધકારક ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મો વચ્ચેના ઉચ્ચ અપાકર્ષણને કારણે,દ્વિપરમાણ્વીય $P_2$ અણુને બદલે ચતુષ્ફલકીય $P_4$ અણુ બનાવવાનું પસંદ કરે છે.

(B) બ્રાઉન રિંગ ટેસ્ટનો ઉપયોગ દ્રાવણમાં નાઈટ્રેટ આયનો $(NO_3^-)$ ની હાજરી શોધવા માટે થાય છે.
આ કસોટીમાં,$Fe(II)$ આયનો $NO$ (નાઈટ્રિક ઓક્સાઈડ) સાથે પ્રતિક્રિયા કરીને ભૂરા રંગનું સંકલિત સંકીર્ણ બનાવે છે.
પ્રક્રિયા આ મુજબ છે: $[Fe(H_2O)_6]^{2+} + NO \to [Fe(H_2O)_5(NO)]^{2+} + H_2O$.
આ સંકીર્ણ,$[Fe(H_2O)_5(NO)]^{2+}$,બે સ્તરોના જંકશન પર જોવા મળતી ભૂરી રીંગ માટે જવાબદાર છે.

(B) મેટાફોસ્ફોરિક એસિડનું રાસાયણિક સૂત્ર $HPO_3$ છે.
તે એક પોલિમરિક એસિડ છે જે સામાન્ય રીતે ચક્રીય ટ્રાઇમર્સ અથવા ઉચ્ચ પોલિમર તરીકે અસ્તિત્વ ધરાવે છે,જેને પ્રાયોગિક સૂત્ર $(HPO_3)_n$ દ્વારા દર્શાવવામાં આવે છે.

(A) એમોનિયા $(NH_3)$ એક બેઝિક વાયુ છે.
બેઝિક વાયુને સૂકવવા માટે,આપણે બેઝિક સૂકવણીકારકનો ઉપયોગ કરવો જોઈએ.
જો એસિડિક સૂકવણીકારકનો ઉપયોગ કરવામાં આવે,તો તે એમોનિયા સાથે પ્રક્રિયા કરીને ક્ષાર બનાવશે.
$CaCl_2$ એ $NH_3$ સાથે એડક્ટ $(CaCl_2 \cdot 8NH_3)$ બનાવે છે.
$P_2O_5$ અને $H_2SO_4$ એસિડિક છે અને તે $NH_3$ સાથે પ્રક્રિયા કરીને એમોનિયમ ક્ષાર બનાવે છે.
તેથી,આપેલા વિકલ્પોમાંથી $CaO$ (ક્વિકલાઈમ) એકમાત્ર યોગ્ય બેઝિક સૂકવણીકારક છે.

(A) સાચો જવાબ $A$ છે. સફેદ ફોસ્ફરસ $CS_2$ માં દ્રાવ્ય છે,જ્યારે લાલ ફોસ્ફરસ તેમાં અદ્રાવ્ય છે. બંને સ્વરૂપો $P_4$ એકમો (એક જ પ્રકારના અણુઓ) ધરાવે છે,બંનેને હવામાં ગરમ કરીને ઓક્સિડેશન કરી શકાય છે,અને તેઓ ચોક્કસ પરિસ્થિતિઓમાં એકબીજામાં રૂપાંતરિત થઈ શકે છે.

(D) સાચો જવાબ $D$ છે.
પાયરોફોસ્ફોરિક એસિડ $(H_4P_2O_7)$ એ ટેટ્રાબેઝિક એસિડ છે કારણ કે તેની રચનામાં ચાર $P-OH$ સમૂહો હોય છે.
તેની રચના: $HO-P(=O)(OH)-O-P(=O)(OH)-OH$ છે.
તેમાં ઓક્સિજન પરમાણુઓ સાથે જોડાયેલા ચાર વિસ્થાપિત હાઇડ્રોજન પરમાણુઓ હોવાથી,તે ટેટ્રાબેઝિક છે.

(B) ફોસ્ફિન $(PH_3)$ સફેદ ફોસ્ફરસને $CO_2$ ના નિષ્ક્રિય વાતાવરણમાં સાંદ્ર સોડિયમ હાઇડ્રોક્સાઇડના દ્રાવણ સાથે ગરમ કરીને બનાવવામાં આવે છે.
રાસાયણિક પ્રક્રિયા: $P_4 + 3NaOH + 3H_2O \to PH_3 + 3NaH_2PO_2$.

(A) સાચો જવાબ $A$ છે.
$NCl_5$ જાણીતું નથી કારણ કે નાઈટ્રોજનમાં તેની સંયોજકતા કક્ષામાં $d$-ઓર્બિટલ્સનો અભાવ હોય છે,જે તેને તેની સહસંયોજકતા $4$ થી આગળ વધારતા અટકાવે છે.

(B) ફોસ્ફરસ અલગ ટેટ્રાહેડ્રલ અણુઓના સ્વરૂપમાં અસ્તિત્વ ધરાવે છે જ્યાં ચાર ફોસ્ફરસ અણુઓ એકલ સહસંયોજક બંધ દ્વારા જોડાયેલા હોય છે.
તેથી,ફોસ્ફરસ અણુનું રાસાયણિક સૂત્ર $P_4$ છે.

(D) $P_4$ અણુનું બંધારણ ચતુષ્ફલકીય હોય છે.
તેમાં છ $P-P$ એકલ બંધ હોય છે.
દરેક ફોસ્ફરસ પરમાણુ પર એક અબંધકારક ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મ હોય છે,તેથી કુલ ચાર અબંધકારક ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મ હોય છે.
બંધકોણ $P-P-P$ એ $60^o$ છે.
તેથી,$(a)$ અને $(c)$ બંને વિધાનો સાચા છે.

(A) સાચો જવાબ $(A)$ છે.
બિર્કેલેન્ડ-આઈડ પ્રક્રિયા એ નાઈટ્રિક એસિડ $(HNO_3)$ બનાવવા માટે વાતાવરણીય નાઈટ્રોજનના સ્થાપન માટે વપરાતી ઔદ્યોગિક પદ્ધતિ છે.
આ પ્રક્રિયામાં,વાતાવરણીય હવાને ખૂબ ઊંચા તાપમાને (આશરે $3000 \ ^\circ C$) ઇલેક્ટ્રિક આર્ક ફર્નેસમાંથી પસાર કરવામાં આવે છે,જ્યાં નાઈટ્રોજન અને ઓક્સિજન પ્રક્રિયા કરીને નાઈટ્રિક ઓક્સાઈડ $(NO)$ બનાવે છે: $N_2 + O_2 \rightleftharpoons 2NO$.
તેથી,આ પ્રક્રિયામાં વપરાતો મુખ્ય કાચો માલ હવા છે.

(D) ફોસ્ફરસના વિવિધ અપરરૂપો પૈકી,$White \ phosphorus$ (સફેદ ફોસ્ફરસ) સૌથી વધુ સક્રિય છે.
આનું કારણ $P_4$ અણુઓમાં રહેલું ઉચ્ચ કોણીય તણાવ (angular strain) છે,જ્યાં બંધકોણ માત્ર $60^\circ$ હોય છે,જે તેને $Red$ અથવા $Black \ phosphorus$ જેવા અન્ય અપરરૂપોની તુલનામાં અત્યંત અસ્થિર અને સક્રિય બનાવે છે.

(B) પ્રયોગશાળામાં,ફોસ્ફિન $(PH_3)$ સફેદ ફોસ્ફરસને કોસ્ટિક પોટાશ $(KOH)$ અથવા કોસ્ટિક સોડા $(NaOH)$ ના સાંદ્ર જલીય દ્રાવણ સાથે $CO_2$ ના નિષ્ક્રિય વાતાવરણમાં ગરમ કરીને બનાવવામાં આવે છે.
રાસાયણિક પ્રક્રિયા નીચે મુજબ છે:
$P_4 + 3KOH + 3H_2O \to PH_3 + 3KH_2PO_2$
તેથી,સાચો વિકલ્પ $(B)$ છે.

(D) $p$-બ્લોક તત્વોમાં સમૂહમાં નીચે તરફ જતાં ધાતુમય ગુણધર્મ વધે છે.
સમૂહ $15$ માં,તત્વો $N, P, As, Sb, Bi$ છે.
$N$ અને $P$ અધાતુઓ છે.
$As$ અને $Sb$ અર્ધધાતુઓ છે.
$Bi$ ધાતુ છે.
તેથી,આપેલા વિકલ્પોમાંથી $Bismuth$ $(Bi)$ સૌથી વધુ ધાતુમય તત્વ છે.

(B) ઓર્થોફોસ્ફોરિક એસિડનું રાસાયણિક સૂત્ર $H_3PO_4$ છે.
તેની રચનામાં,ફોસ્ફરસ પરમાણુ એક ઓક્સિજન પરમાણુ સાથે દ્વિબંધ દ્વારા અને ત્રણ હાઇડ્રોક્સિલ $(-OH)$ સમૂહો સાથે એકલ બંધ દ્વારા જોડાયેલ છે.
ઓક્સોએસિડની બેઝિકતા ઓક્સિજન પરમાણુ સાથે જોડાયેલા આયનીકરણ પામી શકે તેવા હાઇડ્રોજન પરમાણુઓની સંખ્યા દ્વારા નક્કી કરવામાં આવે છે.
$H_3PO_4$ માં $3$ $-OH$ સમૂહો હાજર હોવાથી,તે જલીય દ્રાવણમાં $3$ પ્રોટોન ($H^+$ આયનો) મુક્ત કરી શકે છે.
તેથી,ઓર્થોફોસ્ફોરિક એસિડની બેઝિકતા $3$ છે.

(A) $KNO_3$ ને ગરમ કરવાથી પોટેશિયમ નાઈટ્રાઈટ અને ઓક્સિજન વાયુ મળે છે: $2KNO_{3(s)} \xrightarrow{\Delta} 2KNO_{2(s)} + O_{2(g)}$.
$Pb(NO_3)_2$,$Cu(NO_3)_2$ અને $AgNO_3$ જેવી ભારે ધાતુઓના નાઈટ્રેટને ગરમ કરવાથી નાઈટ્રોજન ડાયોક્સાઈડ $(NO_2)$ સાથે ઓક્સિજન અને ધાતુનો ઓક્સાઈડ મળે છે.

(A) જ્યારે એમોનિયાને ગરમ કરીને ઊંચા તાપમાને ઘન કોપર$(II)$ ઓક્સાઈડ $(CuO)$ પરથી પસાર કરવામાં આવે છે,ત્યારે તે રિડક્શનકર્તા તરીકે વર્તે છે અને $CuO$ નું રિડક્શન કરીને ધાતુમય કોપર બનાવે છે,જ્યારે એમોનિયાનું ઓક્સિડેશન થઈને નાઈટ્રોજન વાયુ મુક્ત થાય છે.
સંતુલિત રાસાયણિક સમીકરણ:
$2 NH_{3(g)} + 3 CuO_{(s)} \rightarrow N_{2(g)} + 3 Cu_{(s)} + 3 H_2O_{(g)}$
આમ,મુક્ત થતો વાયુ $N_2$ છે.