Carbon family Questions in Hindi

(A) हीरे में कार्बन-कार्बन $(C-C)$ बंध लंबाई $154 \, pm$ होती है।
ग्रेफाइट में, अनुनाद (resonance) के कारण $C-C$ बंध लंबाई $141.5 \, pm$ होती है।
नेफ़थलीन और फुलरीन में, बंध लंबाई एकल और द्वि-बंध के बीच होती है।
इसलिए, $C-C$ बंध लंबाई हीरे में अधिकतम होती है।

(B) अभिक्रिया $\underline{S}O_2 + H_2O \longrightarrow H_2SO_3$ है।
$H_2SO_3$ में,सल्फर की ऑक्सीकरण अवस्था $+4$ है।
सल्फर अपनी $+4$ ऑक्सीकरण अवस्था में सल्फ्यूरस एसिड $(H_2SO_3)$ बनाता है,जिसमें $-ous$ प्रत्यय होता है।
अतः,उत्पाद $-ous$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सीएसिड है।

(D) कार्बन मोनोऑक्साइड $(CO)$ एक उदासीन ऑक्साइड है।
यह कमरे के तापमान $(R.T.)$ पर पानी के साथ अभिक्रिया करके कोई ऑक्सी अम्ल नहीं बनाता है।
इसलिए,उत्पाद ऑक्सी अम्ल नहीं है,और इसमें न तो $-ic$ और न ही $-ous$ प्रत्यय होता है।
अतः,सही विकल्प $D$ है।

(A) अभिक्रिया है: $\underline{S}O_3 + H_2O \longrightarrow H_2SO_4$.
$SO_3$ में,सल्फर की ऑक्सीकरण अवस्था $+6$ है।
उत्पाद $H_2SO_4$ (सल्फ्यूरिक अम्ल) में,सल्फर की ऑक्सीकरण अवस्था भी $+6$ है।
चूंकि ऑक्सीकरण अवस्था समान रहती है और उत्पाद सल्फर के लिए उच्चतम ऑक्सीकरण अवस्था वाला ऑक्सी अम्ल है,इसलिए इसे $-ic$ प्रत्यय (सल्फ्यूरिक अम्ल) के साथ नामित किया जाता है।
अतः,सही विकल्प $A$ है।

(A) अभिक्रिया है: $\underline{C}O_2 + H_2O \longrightarrow H_2CO_3$.
$H_2CO_3$ (कार्बोनिक अम्ल) में,कार्बन की ऑक्सीकरण अवस्था $+4$ है।
चूंकि कार्बन अपनी उच्चतम ऑक्सीकरण अवस्था $(+4)$ में है,इसलिए संबंधित ऑक्सी अम्ल का नाम $-ic$ प्रत्यय के साथ रखा जाता है।
अतः,$H_2CO_3$ कार्बोनिक अम्ल है,जो $-ic$ पर समाप्त होता है।

(D) $CCl_4 + H_2O \longrightarrow \text{कोई अभिक्रिया नहीं}$ अभिक्रिया इसलिए होती है क्योंकि $CCl_4$ में कार्बन परमाणु चार क्लोरीन परमाणुओं द्वारा त्रिविम बाधा (sterically hindered) से घिरा होता है और इसमें पानी के ऑक्सीजन परमाणु से एकाकी युग्म (lone pair) स्वीकार करने के लिए रिक्त $d$-कक्षक नहीं होते हैं।
चूंकि कोई अभिक्रिया नहीं होती है,इसलिए कोई उत्पाद नहीं बनता है,और इसलिए,उत्पाद न तो $-ic$ प्रत्यय वाला ऑक्सी अम्ल है और न ही $-ous$ प्रत्यय वाला।
अतः,सही विकल्प $D$ है।

(D) अभिक्रिया $\underline{N}O + H_2O \longrightarrow$ कमरे के तापमान $(R.T.)$ पर कोई अभिक्रिया नहीं दर्शाती है।
चूंकि कोई उत्पाद नहीं बनता है,इसलिए यह स्थिति किसी भी ऑक्सीएसिड वर्गीकरण पर लागू नहीं होती है।
अतः,सही विवरण यह है कि उत्पाद ऑक्सीएसिड नहीं है,न तो $-ic$ प्रत्यय के साथ और न ही $-ous$ प्रत्यय के साथ।

(A) $Cl_2O_7$ के पूर्ण जल-अपघटन की अभिक्रिया है:
$Cl_2O_7 + H_2O \to 2HClO_4$
$HClO_4$ (परक्लोरिक अम्ल) में,क्लोरीन की ऑक्सीकरण अवस्था $+7$ है।
चूंकि क्लोरीन परमाणु अपनी उच्चतम ऑक्सीकरण अवस्था $(+7)$ में है,इसलिए संबंधित ऑक्सीएसिड का नाम $-ic$ प्रत्यय के साथ रखा जाता है (विशेष रूप से,परक्लोरिक अम्ल)।
अतः,उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सीएसिड है।

(A) अभिक्रिया $H_3PO_5 + H_2O \longrightarrow H_3PO_4 + H_2O_2$ है।
उत्पाद $H_3PO_4$ (फॉस्फोरिक अम्ल) में,फास्फोरस परमाणु अपनी $+5$ ऑक्सीकरण अवस्था में है।
$-ic$ प्रत्यय का उपयोग उस अम्ल के लिए किया जाता है जहाँ केंद्रीय परमाणु अपनी उच्च ऑक्सीकरण अवस्था में होता है (जैसे,फॉस्फोरिक अम्ल)।
चूँकि $H_3PO_4$ एक $-ic$ प्रत्यय वाला ऑक्सी अम्ल है,इसलिए विकल्प $A$ सही है।

(A) दी गई अभिक्रिया है: $\underline{Si}F_4 + 4H_2O \longrightarrow H_4SiO_4 + 4HF$.
नोट: पूर्ण जल-अपघटन के लिए संतुलित समीकरण $\underline{Si}F_4 + 4H_2O \longrightarrow H_4SiO_4 + 4HF$ है।
उत्पाद $H_4SiO_4$ ऑर्थोसिलिसिक एसिड है,जिसे $Si(OH)_4$ या $H_4SiO_4$ के रूप में लिखा जा सकता है।
$H_4SiO_4$ में,$Si$ की ऑक्सीकरण अवस्था $+4$ है।
चूंकि $Si$ की उच्चतम ऑक्सीकरण अवस्था $+4$ है,इसलिए संबंधित ऑक्सीएसिड का नाम $-ic$ प्रत्यय (सिलिसिक एसिड) के साथ रखा जाता है।
अतः,उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सीएसिड है।

(A) दी गई अभिक्रिया कैरो अम्ल $(H_2SO_5)$ का जल-अपघटन है:
$H_2SO_5 + H_2O \longrightarrow H_2SO_4 + H_2O_2$
इस अभिक्रिया में,रेखांकित परमाणु सल्फर $(S)$ है।
उत्पाद $H_2SO_4$ सल्फ्यूरिक अम्ल है,जो $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सीएसिड है।
उत्पाद $H_2O_2$ हाइड्रोजन पेरोक्साइड है,जो ऑक्सीएसिड नहीं है।
चूंकि प्रश्न रेखांकित परमाणु $(S)$ के उत्पाद की प्रकृति निर्धारित करने के लिए कहता है,और $H_2SO_4$ प्राथमिक सल्फर-युक्त उत्पाद है,इसलिए यह $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सीएसिड है।
अतः,सही विवरण यह है कि उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सीएसिड है।

(A) $R.T.$ पर $SiCl_4$ का पूर्ण जल-अपघटन अभिक्रिया द्वारा होता है:
$SiCl_4 + 4H_2O \longrightarrow H_4SiO_4 + 4HCl$
यहाँ,$H_4SiO_4$ ऑर्थोसिलिसिक अम्ल है।
ऑक्सी अम्लों के नामकरण में,$H_4SiO_4$ को सिलिसिक अम्ल कहा जाता है,जो $-ic$ प्रत्यय के नियम का पालन करता है।
अतः,उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सी अम्ल है।

(A) अभिक्रिया है: $\underline{Cr}O_2Cl_2 + 2H_2O \longrightarrow H_2CrO_4 + 2HCl$.
$H_2CrO_4$ में,$Cr$ की ऑक्सीकरण अवस्था $+6$ है।
चूंकि $Cr$ अपनी उच्चतम ऑक्सीकरण अवस्था $(+6)$ में है,इसलिए संबंधित ऑक्सीएसिड को क्रोमिक एसिड कहा जाता है,जो $-ic$ प्रत्यय के साथ समाप्त होता है।
अतः,उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सीएसिड है।

(D) अभिक्रिया $\underline{Si}O_2 + H_2O \longrightarrow$ कोई अभिक्रिया नहीं,यह दर्शाती है कि सिलिकॉन डाइऑक्साइड $(SiO_2)$ पानी में अघुलनशील है और कमरे के तापमान $(R.T.)$ पर इसका जल-अपघटन नहीं होता है।
चूंकि कोई अभिक्रिया नहीं होती है,इसलिए किसी ऑक्सी-एसिड का निर्माण नहीं होता है।
अतः,उत्पाद ऑक्सी-एसिड नहीं है,न तो $-ic$ प्रत्यय के साथ और न ही $-ous$ प्रत्यय के साथ।
इस प्रकार,सही विकल्प $D$ है।

(B) $P_4O_6$ के पूर्ण जल-अपघटन की अभिक्रिया इस प्रकार है:
$P_4O_6 + 6H_2O \longrightarrow 4H_3PO_3$
$P_4O_6$ में,फास्फोरस की ऑक्सीकरण अवस्था $+3$ है।
$H_3PO_3$ फास्फोरस अम्ल है,जिसमें फास्फोरस $+3$ ऑक्सीकरण अवस्था में है।
कम ऑक्सीकरण अवस्था वाले ऑक्सी अम्लों का नाम $-ous$ प्रत्यय के साथ रखा जाता है,जबकि उच्च ऑक्सीकरण अवस्था वाले अम्लों का नाम $-ic$ प्रत्यय के साथ रखा जाता है।
चूंकि $H_3PO_3$ एक $-ous$ प्रत्यय वाला ऑक्सी अम्ल है,इसलिए सही विकल्प $B$ है।

(A) दी गई अभिक्रिया पाइरोसिलिसिक अम्ल $(H_6Si_2O_7)$ का जल-अपघटन है:
$H_6Si_2O_7 + H_2O \longrightarrow 2H_4SiO_4$
$H_4SiO_4$ ऑर्थोसिलिसिक अम्ल है।
ऑर्थोसिलिसिक अम्ल में,$Si$ की ऑक्सीकरण अवस्था $+4$ है।
चूंकि $Si$ अपनी उच्चतम ऑक्सीकरण अवस्था $(+4)$ में है,इसलिए संबंधित ऑक्सी अम्ल का नाम $-ic$ प्रत्यय (सिलिसिक अम्ल) के साथ रखा जाता है।
अतः,उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सी अम्ल है।

(B) $SF_4$ का कमरे के तापमान पर जल-अपघटन इस प्रकार होता है:
$SF_4 + 3H_2O \longrightarrow H_2SO_3 + 4HF$
उत्पाद $H_2SO_3$ (सल्फ्यूरस अम्ल) में सल्फर की ऑक्सीकरण अवस्था $+4$ है।
चूंकि यहाँ $-ous$ प्रत्यय (सल्फ्यूरस अम्ल) का उपयोग किया गया है,इसलिए सही विकल्प यह है कि उत्पाद $-ous$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सी-अम्ल है।

(A) यह अभिक्रिया ओलियम $(H_2S_2O_7)$ का जल-अपघटन है:
$H_2S_2O_7 + H_2O \longrightarrow 2H_2SO_4$.
यहाँ,$H_2S_2O_7$ में सल्फर परमाणु की ऑक्सीकरण अवस्था $+6$ है।
प्राप्त उत्पाद सल्फ्यूरिक अम्ल $(H_2SO_4)$ है,जिसमें सल्फर की ऑक्सीकरण अवस्था भी $+6$ है।
चूंकि उच्च ऑक्सीकरण अवस्था वाले अम्ल के लिए प्रत्यय $-ic$ होता है,इसलिए उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सी अम्ल है।

(A) फास्फोरस पेंटोक्साइड $(P_4O_{10})$ के पूर्ण जल-अपघटन की अभिक्रिया इस प्रकार है:
$P_4O_{10} + 6H_2O \longrightarrow 4H_3PO_4$
उत्पाद $H_3PO_4$ (फास्फोरिक एसिड) में,फास्फोरस की ऑक्सीकरण अवस्था $+5$ है।
चूंकि फास्फोरस परमाणु अपनी उच्चतम ऑक्सीकरण अवस्था $(+5)$ में है,इसलिए संबंधित ऑक्सीएसिड का नाम $-ic$ प्रत्यय (फास्फोरिक एसिड) के साथ रखा जाता है।
अतः,सही विवरण यह है कि उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सीएसिड है।

(A) अभिक्रिया है: $\underline{P}OCl_3 + 3H_2O \longrightarrow H_3PO_4 + 3HCl$.
इस अभिक्रिया में,$\underline{P}OCl_3$ में फास्फोरस परमाणु (जहाँ $P$ की ऑक्सीकरण अवस्था $+5$ है) का पूर्ण जल-अपघटन होकर फास्फोरिक अम्ल $(H_3PO_4)$ बनता है।
$H_3PO_4$ फास्फोरस का एक ऑक्सी अम्ल है जिसमें फास्फोरस $+5$ ऑक्सीकरण अवस्था में है,जो $-ic$ प्रत्यय (फास्फोरिक अम्ल) के अनुरूप है।
अतः,उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सी अम्ल है।

(D) $R.T.$ (कमरे के तापमान) पर $P_4$ और $H_2O$ के बीच कोई अभिक्रिया नहीं होती है।
चूँकि कोई उत्पाद नहीं बनता है,इसलिए यह कोई ऑक्सी अम्ल नहीं बनाता है।
अतः,विकल्प $D$ में वर्णित स्थिति संतुष्ट होती है क्योंकि उत्पाद ऑक्सी अम्ल नहीं है।

(D) अभिक्रिया $\underline{S}_8 + H_2O \longrightarrow$ कोई अभिक्रिया नहीं,यह दर्शाती है कि तात्विक सल्फर $(S_8)$ कमरे के तापमान $(R.T.)$ पर जल-अपघटित नहीं होता है।
चूंकि कोई अभिक्रिया नहीं होती है,इसलिए कोई ऑक्सी अम्ल नहीं बनता है।
अतः,विकल्प $D$ में वर्णित स्थिति संतुष्ट होती है,क्योंकि कोई ऐसा उत्पाद नहीं बनता है जिसे $-ic$ या $-ous$ प्रत्यय वाले ऑक्सी अम्ल के रूप में वर्गीकृत किया जा सके।

(B) अभिक्रिया है: $\underline{S}OCl_2 + 2H_2O \longrightarrow H_2SO_3 + 2HCl$.
इस अभिक्रिया में,$SOCl_2$ (थायोनिल क्लोराइड) में सल्फर परमाणु का जल-अपघटन होकर सल्फ्यूरस अम्ल $(H_2SO_3)$ और हाइड्रोक्लोरिक अम्ल $(HCl)$ बनता है।
उत्पाद $H_2SO_3$ सल्फर का एक ऑक्सी अम्ल है जिसमें सल्फर $+4$ ऑक्सीकरण अवस्था में है।
$+4$ ऑक्सीकरण अवस्था वाले सल्फर के ऑक्सी अम्लों का नाम $-ous$ प्रत्यय के साथ रखा जाता है (जैसे,सल्फ्यूरस अम्ल)।
अतः,उत्पाद $-ous$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सी अम्ल है।

(A) अभिक्रिया है: $\underline{Si}H_4 + 4H_2O \longrightarrow H_4SiO_4 + 4H_2$.
$H_4SiO_4$ को $Si(OH)_4$ या $H_2SiO_3 \cdot H_2O$ के रूप में भी लिखा जाता है,जो सिलिसिक अम्ल है।
सिलिसिक अम्ल में,$Si$ की ऑक्सीकरण अवस्था $+4$ है।
चूंकि $Si$ की अधिकतम ऑक्सीकरण अवस्था $+4$ है,इसलिए अम्ल का नाम $-ic$ प्रत्यय के साथ रखा जाता है (सिलिसिक अम्ल)।
अतः,उत्पाद $-ic$ प्रत्यय वाला एक ऑक्सी अम्ल है।

(A) $SOF_4$ का पूर्ण जल-अपघटन अभिक्रिया द्वारा दिया गया है:
$SOF_4 + 3H_2O \longrightarrow H_2SO_4 + 4HF$
उत्पाद $H_2SO_4$ (सल्फ्यूरिक अम्ल) में,सल्फर परमाणु $+6$ ऑक्सीकरण अवस्था में है।
ऑक्सी अम्ल में केंद्रीय परमाणु की उच्च ऑक्सीकरण अवस्था के लिए $-ic$ प्रत्यय का उपयोग किया जाता है।
चूंकि $H_2SO_4$ सल्फ्यूरिक अम्ल है,इसलिए यह $-ic$ प्रत्यय के साथ समाप्त होता है।
अतः,सही विकल्प $A$ है।

(B) तापीय अपघटन अभिक्रियाएँ इस प्रकार हैं:
$1. 2K_2Cr_2O_7 \xrightarrow{\Delta } 2K_2CrO_4 + Cr_2O_3 + \frac{3}{2}O_2$ ($O_2$ उत्पन्न होता है)
$2. Ag_2C_2O_4 \xrightarrow{\Delta } 2Ag + 2CO_2$ ($O_2$ उत्पन्न नहीं होता है)
$3. 2Pb(NO_3)_2 \xrightarrow{\Delta } 2PbO + 4NO_2 + O_2$ ($O_2$ उत्पन्न होता है)
$4. Ag_2CO_3 \xrightarrow{\Delta } 2Ag + CO_2 + \frac{1}{2}O_2$ ($O_2$ उत्पन्न होता है)
अतः,$Ag_2C_2O_4$ गर्म करने पर ऑक्सीजन गैस मुक्त नहीं करता है।

(D) उभयधर्मी ऑक्साइड वे होते हैं जो अम्ल और क्षार दोनों के साथ अभिक्रिया करके लवण और जल बनाते हैं।
उभयधर्मी ऑक्साइड बनाने वाले तत्वों के सामान्य उदाहरणों में $Al$,$Zn$,$Pb$,$Sn$,$Be$,और $Ge$ शामिल हैं।
विकल्प $D$ में,$Ge$ (जर्मेनियम) और $Al$ (एल्युमिनियम) दोनों उभयधर्मी ऑक्साइड ($GeO_2$ और $Al_2O_3$) बनाते हैं।
अतः,सही युग्म $Ge$ और $Al$ है।

(D) उभयधर्मी ऑक्साइड वे होते हैं जो अम्ल और क्षार दोनों के साथ अभिक्रिया करके लवण और जल बनाते हैं।
उभयधर्मी ऑक्साइड बनाने वाली धातुओं के सामान्य उदाहरणों में $Al$,$Zn$,$Pb$,$Sn$,$Be$ और $Ga$ शामिल हैं।
दिए गए विकल्पों में,$Sn$ (टिन) और $Zn$ (जिंक) दोनों उभयधर्मी ऑक्साइड ($SnO_2$ और $ZnO$) बनाते हैं।
अतः,सही युग्म $Sn$ और $Zn$ है।

(B) समूह $14$ के तत्वों के टेट्राहेलाइड सहसंयोजक होते हैं और इनकी ज्यामिति चतुष्फलकीय होती है।
कार्बन को छोड़कर,अन्य सभी समूह $14$ के टेट्राहेलाइड $(MX_4)$ में केंद्रीय परमाणु में रिक्त $d$-कक्षक होते हैं।
ये रिक्त $d$-कक्षक केंद्रीय परमाणु को दाता अणुओं से इलेक्ट्रॉन युग्म स्वीकार करने की अनुमति देते हैं,जिससे वे $Lewis$ अम्ल के रूप में कार्य करते हैं।
कार्बन में रिक्त $d$-कक्षक नहीं होते हैं और यह अपनी संयोजकता का विस्तार नहीं कर सकता है,इसलिए यह $Lewis$ अम्ल के रूप में कार्य नहीं करता है।

(C) $Al$ की $N_2$ के साथ अभिक्रिया से एल्युमिनियम नाइट्राइड प्राप्त होता है:
$2Al + N_2 \rightarrow 2AlN \, (A)$
$AlN$ का जल-अपघटन करने पर अमोनिया प्राप्त होता है:
$AlN + 3H_2O \rightarrow Al(OH)_3 + NH_3 \uparrow$
$Al$ की $C$ के साथ अभिक्रिया से एल्युमिनियम कार्बाइड प्राप्त होता है:
$4Al + 3C \rightarrow Al_4C_3 \, (B)$
$Al_4C_3$ का जल-अपघटन करने पर मीथेन प्राप्त होता है:
$Al_4C_3 + 12H_2O \rightarrow 4Al(OH)_3 + 3CH_4 \uparrow$
अतः,$A$ से $NH_3$ और $B$ से $CH_4$ प्राप्त होता है।

(D) तत्व की कैटिनेशन शक्ति उसके अपने परमाणुओं के बीच बनने वाले बंध की मजबूती (तत्व-तत्व बंध ऊर्जा) के सीधे समानुपाती होती है।
चूंकि कैटिनेशन शक्ति का क्रम $Ge < Si < C$ है,इसलिए बंध ऊर्जा का क्रम भी $Ge-Ge < Si-Si < C-C$ होना चाहिए।
दिए गए मानों की तुलना करने पर,बंध ऊर्जाएं क्रमशः $C-C$ के लिए $350 \ kJ/mol$,$Si-Si$ के लिए $180 \ kJ/mol$ और $Ge-Ge$ के लिए $170 \ kJ/mol$ हैं।
अतः,सही क्रम $350, 180, 170$ है।

(B) $1$. $CO_2$ और $SO_2$ दोनों चूने के पानी $(Ca(OH)_2)$ के साथ प्रतिक्रिया करके कैल्शियम कार्बोनेट $(CaCO_3)$ या कैल्शियम सल्फाइट $(CaSO_3)$ बनाते हैं,जो सफेद अवक्षेप हैं,जिससे चूने का पानी दूधिया हो जाता है।
$2$. $SO_2$ एक अपचायक (reducing agent) के रूप में कार्य करता है और $Cr_2(SO_4)_3$ के निर्माण के कारण अम्लीकृत $K_2Cr_2O_7$ विलयन को हरा कर देता है,लेकिन $CO_2$ ऐसा नहीं करता है।
$3$. $SO_2$ ऑक्सीकरण और अपचायक दोनों के रूप में कार्य कर सकता है,जबकि $CO_2$ सामान्य परिस्थितियों में रेडॉक्स प्रतिक्रियाओं में निष्क्रिय होता है।
$4$. चूंकि केवल कथन $B$ सही है,इसलिए दिए गए विकल्पों में त्रुटि है।

(D) $1$. $SiC$ (कार्बोरंडम) एक सहसंयोजक कार्बाइड है। यह अत्यधिक कठोर होता है और सामान्य परिस्थितियों में जल-अपघटन के प्रति प्रतिरोधी होता है।
$2$. $Al_4C_3$ (एल्युमिनियम कार्बाइड) एक आयनिक कार्बाइड (मेथेनाइड) है। जल-अपघटन पर,यह पानी के साथ अभिक्रिया करके मीथेन गैस उत्पन्न करता है: $Al_4C_3 + 12H_2O \rightarrow 4Al(OH)_3 + 3CH_4$.
$3$. $Be_2C$ (बेरिलियम कार्बाइड) भी एक आयनिक कार्बाइड (मेथेनाइड) है। जल-अपघटन पर,यह मीथेन गैस उत्पन्न करता है: $Be_2C + 4H_2O \rightarrow 2Be(OH)_2 + CH_4$.
अतः,कथन $B$ और $C$ दोनों सही हैं।

(C) सिलिकेट्स का वर्गीकरण $SiO_4^{4-}$ टेट्राहेड्रल इकाइयों के बीच साझा किए गए ऑक्सीजन परमाणुओं की संख्या के आधार पर किया जाता है।
$1$. ऑर्थो सिलिकेट्स में अलग-अलग $SiO_4^{4-}$ इकाइयाँ होती हैं।
$2$. पायरो सिलिकेट्स (जिन्हें सोरोसिलिकेट्स भी कहा जाता है) दो $SiO_4^{4-}$ इकाइयों के बीच एक ऑक्सीजन परमाणु साझा करने से बनते हैं,जिसके परिणामस्वरूप $Si_2O_7^{6-}$ आयन प्राप्त होता है।
$3$. चक्रीय सिलिकेट्स में ऐसी इकाइयाँ होती हैं जहाँ रिंग संरचना बनाने के लिए प्रति टेट्राहेड्रॉन दो ऑक्सीजन परमाणु साझा किए जाते हैं।
$4$. श्रृंखला सिलिकेट्स में लंबी श्रृंखला बनाने के लिए प्रति टेट्राहेड्रॉन दो ऑक्सीजन परमाणु साझा किए जाते हैं।
अतः,$Si_2O_7^{6-}$ इकाइयाँ रखने वाले सिलिकेट्स को पायरो सिलिकेट्स कहा जाता है।

(B) सत्य: $R_2SiO$ रैखिक सिलिकोन की पुनरावर्ती इकाई है।
$(b)$ असत्य: $RSiCl_3$ के जल-अपघटन और निर्जलीकरण से क्रॉस-लिंक्ड सिलिकोन प्राप्त होते हैं। रैखिक सिलिकोन के लिए $R_2SiCl_2$ का उपयोग किया जाता है।
$(c)$ सत्य: सिलिकोन रासायनिक रूप से निष्क्रिय होते हैं और उनकी तापीय स्थिरता अधिक होती है,जिससे वे ऊष्मा कुचालक के रूप में उपयोगी होते हैं।
$(d)$ सत्य: सिलिका $(SiO_2)$ हाइड्रोफ्लोरिक एसिड $(HF)$ के साथ अभिक्रिया करके हेक्साफ्लोरोसिलिसिक एसिड बनाती है: $SiO_2 + 6HF \rightarrow H_2SiF_6 + 2H_2O$.
अतः,सही कथन $(a), (c)$ और $(d)$ हैं।

(A) सिलिकोन ऑर्गेनोसिलिकॉन पॉलिमर का एक समूह है,जिसमें $(-R_2SiO-)$ एक पुनरावर्ती इकाई के रूप में होता है।
सिलिकोन के निर्माण के लिए प्रारंभिक सामग्री अल्काइल या एरील प्रतिस्थापित सिलिकॉन क्लोराइड,$R_nSiCl_{(4-n)}$ हैं,जहाँ $R$ एक अल्काइल या एरील समूह है।
इन अल्काइल या एरील प्रतिस्थापित सिलिकॉन क्लोराइड के जल-अपघटन पर सिलानोल बनते हैं,जो संघनन बहुलकीकरण (condensation polymerization) के माध्यम से सिलिकोन बनाते हैं।
दिए गए विकल्पों में से,$(CH_3)_2SiCl_2$ एक अल्काइल-प्रतिस्थापित सिलिकॉन क्लोराइड है,जो जल-अपघटन पर $(CH_3)_2Si(OH)_2$ देता है,जिसके बाद बहुलकीकरण द्वारा सिलिकोन बनता है। अतः,विकल्प $A$ सही उत्तर है।

(B) $SiO_2$ (सिलिका) एक सहसंयोजक नेटवर्क ठोस है जहाँ प्रत्येक $Si$ परमाणु $sp^3$ संकरित होता है और चतुष्फलकीय ज्यामिति में चार ऑक्सीजन परमाणुओं से जुड़ा होता है।
$Si-O$ बंधों की उपस्थिति और ऑक्साइड की प्रकृति के कारण,$SiO_2$ अम्लीय प्रकृति का होता है,क्योंकि यह प्रबल क्षार के साथ अभिक्रिया करके सिलिकेट बनाता है।

(D) $P_4O_{10}$ की संरचना में एक $P_4$ चतुष्फलक होता है जहाँ प्रत्येक $P$ परमाणु ऑक्सीजन सेतु ($P-O-P$ बंध) के माध्यम से अन्य तीन $P$ परमाणुओं से जुड़ा होता है।
इसके अतिरिक्त,प्रत्येक $P$ परमाणु एक द्वि-बंध $(P=O)$ के माध्यम से एक टर्मिनल ऑक्सीजन परमाणु से जुड़ा होता है।
ये टर्मिनल $P=O$ बंध $P-O-P$ एकल बंधों की तुलना में छोटे होते हैं।
$P_4O_{10}$ में ऐसे $4$ टर्मिनल $P=O$ बंध होते हैं।
अतः,छोटे $P-O$ बंधों की संख्या $4$ है।

(D) जिओलाइट्स एल्युमिनो-सिलिकेट्स हैं जिनकी त्रि-आयामी नेटवर्क संरचना होती है जिसमें कुछ सिलिकॉन परमाणु एल्युमिनियम परमाणुओं द्वारा प्रतिस्थापित होते हैं,जो ढांचे को ऋणात्मक आवेश प्रदान करते हैं।
इस ढांचे को $Al_xSi_{1-x}O_2$ के रूप में दर्शाया जाता है।
इसलिए,यह कथन कि $SiO_4^{4-}$ इकाइयों को $AlO_4^{5-}$ आयनों द्वारा प्रतिस्थापित नहीं किया जाता है,गलत है,क्योंकि यह प्रतिस्थापन ही उनके आयन-विनिमय गुणों का मूल कारण है।

(D) एल्युमिनियम एक अत्यधिक सक्रिय धातु है जो हवा के संपर्क में आने पर अपनी सतह पर ऑक्साइड की एक पतली और सुरक्षात्मक परत $(Al_2O_3)$ बनाती है।
यह ऑक्साइड परत पारदर्शी और कठोर होती है,जो धातु को आगे ऑक्सीकरण या धूमिल होने से बचाती है।
चूंकि यह हवा में धूमिल नहीं होता है और अपनी परावर्तकता बनाए रखता है,इसलिए यह दर्पण बनाने के लिए एक उत्कृष्ट सामग्री है।

(C) $CCl_4$ का जल-अपघटन नहीं होता है क्योंकि कार्बन की संयोजकता कोश में $d$-कक्षकों का अभाव होता है,जो इसे पानी के अणुओं के साथ जुड़ने के लिए अपनी समन्वय संख्या बढ़ाने से रोकता है। इसके विपरीत,$SiCl_4$,$SiF_4$ और $PbCl_4$ में रिक्त $d$-कक्षकों की उपलब्धता के कारण वे जल-अपघटन कर सकते हैं।

(B) कार्बन परिवार (समूह $14$) में,जैसे-जैसे हम समूह में नीचे जाते हैं,परमाणु क्रमांक बढ़ता है।
अक्रिय युग्म प्रभाव (inert pair effect) के कारण,$+2$ ऑक्सीकरण अवस्था की स्थिरता बढ़ती है जबकि $+4$ ऑक्सीकरण अवस्था की स्थिरता घटती है।
समूह में नीचे जाने पर धात्विक गुण बढ़ता है।
समूह में नीचे जाने पर आयनन ऊर्जा घटती है।
नई कक्षाओं के जुड़ने के कारण समूह में नीचे जाने पर परमाणु आकार बढ़ता है।

(C) सिलिकॉन पृथ्वी की पपड़ी में दूसरा सबसे प्रचुर तत्व है,जो मुख्य रूप से सिलिका $(SiO_2)$ और सिलिकेट्स के रूप में पाया जाता है। ये यौगिक चट्टानों,रेत और मिट्टी के प्राथमिक घटक हैं। इसलिए,सिलिकॉन चट्टानों का एक महत्वपूर्ण घटक है।

(D) क्रिस्टलीय सिलिकॉन की संरचना हीरे जैसी होती है,जिसमें प्रत्येक सिलिकॉन परमाणु अन्य चार सिलिकॉन परमाणुओं के साथ चतुष्फलकीय रूप से जुड़ा होता है। कार्बन के दिए गए अपररूपों में,हीरा (डायमंड) सिलिकॉन के समान ही $sp^3$ संकरण वाली चतुष्फलकीय संरचना रखता है। इसलिए,हीरा क्रिस्टलीय सिलिकॉन के साथ समरूपी है।

(D) समूह $14$ के तत्वों में,अक्रिय युग्म प्रभाव (inert pair effect) के कारण समूह में नीचे जाने पर $+2$ ऑक्सीकरण अवस्था की स्थिरता बढ़ती है।
$Pb$ और $Sn$ स्थिर मोनोऑक्साइड ($PbO$ और $SnO$) बनाते हैं।
$Ge$,$GeO$ बनाता है,जो उच्च तापमान पर स्थिर होता है।
$Silicon$ $(Si)$ सामान्य परिस्थितियों में स्थिर मोनोऑक्साइड $(SiO)$ नहीं बनाता है क्योंकि $SiO$ अस्थिर होता है और यह $Si$ और $SiO_2$ में विघटित हो जाता है।

(A) $SnCl_4 \cdot 5H_2O$ यौगिक को सामान्यतः 'Butter of Tin' के रूप में जाना जाता है।
यह टिन$(IV)$ क्लोराइड का जलयोजित रूप है,जो एक सफेद,क्रिस्टलीय ठोस के रूप में दिखाई देता है।

(C) सिलिका $(SiO_2)$ और सोडियम कार्बोनेट $(Na_2CO_3)$ के बीच की अभिक्रिया कांच निर्माण में उपयोग की जाने वाली एक संलयन (fusion) अभिक्रिया है।
रासायनिक समीकरण इस प्रकार है: $SiO_2 + Na_2CO_3 \rightarrow Na_2SiO_3 + CO_2 \uparrow$.
समीकरण में दिखाए अनुसार,इस प्रक्रिया के दौरान $CO_2$ गैस उत्पन्न होती है।

(A) कार्बन टेट्राहैलाइड्स $(CX_4)$ की स्थिरता $C-X$ बंध की बंध वियोजन ऊर्जा पर निर्भर करती है।
जैसे-जैसे हैलोजन परमाणु का आकार $F$ से $I$ तक बढ़ता है,बंध लंबाई बढ़ती है और बंध वियोजन ऊर्जा घटती है।
चूंकि कार्बन टेट्राहैलाइड्स में $C-F$ बंध सबसे छोटा और सबसे मजबूत होता है,इसलिए $CF_4$ की बंध वियोजन ऊर्जा सबसे अधिक होती है और यह सबसे अधिक स्थिर होता है।

(D) कार्बन $(C)$ और सिलिकॉन $(Si)$ आवर्त सारणी के समूह $14$ के तत्व हैं।
कार्बन एक अधातु है,जबकि सिलिकॉन एक उपधातु है।
उनके परमाणु आकार,आयनन एन्थैल्पी और विद्युत ऋणात्मकता में महत्वपूर्ण अंतर के कारण,वे भिन्न भौतिक और रासायनिक गुण प्रदर्शित करते हैं।
उदाहरण के लिए,कार्बन स्थिर $p\pi-p\pi$ बहु-आबंध बनाता है,जबकि सिलिकॉन अपने बड़े परमाणु आकार के कारण ऐसे आबंध प्रभावी ढंग से नहीं बना पाता है।

(D) कार्बोरंडम सिलिकॉन कार्बाइड का सामान्य नाम है,जिसका रासायनिक सूत्र $SiC$ है।
यह एक बहुत ही कठोर पदार्थ है जिसका उपयोग अपघर्षक (abrasive) के रूप में किया जाता है।