Carbon family Questions in Gujarati

(B) સલ્ફર કેટેનેશનનો ગુણધર્મ ધરાવે છે.
તે આઠ પરમાણુઓ ધરાવતું સ્થાયી વલય જેવું બંધારણ બનાવે છે,જેને $S_8$ તરીકે દર્શાવવામાં આવે છે.

(C) અણુનો પેરામેગ્નેટિક ગુણધર્મ તેમાં રહેલા અયુગ્મિત ઇલેક્ટ્રોનની હાજરી દ્વારા નક્કી થાય છે.
$CO_2$ માં $16$ સંયોજકતા ઇલેક્ટ્રોન છે અને બધા યુગ્મિત છે.
$SO_2$ માં $18$ સંયોજકતા ઇલેક્ટ્રોન છે અને બધા યુગ્મિત છે.
$SiO_2$ એ સહસંયોજક નેટવર્ક ઘન છે જેમાં બધા ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મિત છે.
$ClO_2$ માં $19$ સંયોજકતા ઇલેક્ટ્રોન છે,જેનો અર્થ છે કે તેમાં એકી સંખ્યામાં ઇલેક્ટ્રોન છે,જેના પરિણામે ઓછામાં ઓછો એક અયુગ્મિત ઇલેક્ટ્રોન હાજર હોય છે.
તેથી,$ClO_2$ પેરામેગ્નેટિક ગુણધર્મ દર્શાવે છે.

(C) $P_4O_{10}$ ની રચનામાં $P_4$ ટેટ્રાહેડ્રોન હોય છે,જેમાં દરેક ફોસ્ફરસ પરમાણુ ત્રણ બ્રિજિંગ ઓક્સિજન પરમાણુઓ ($P-O-P$ જોડાણો) અને એક ટર્મિનલ ઓક્સિજન પરમાણુ સાથે દ્વિબંધ (અથવા સંયોજક બંધ) દ્વારા જોડાયેલ હોય છે.
આમ,દરેક ફોસ્ફરસ પરમાણુ કુલ $4$ ઓક્સિજન પરમાણુઓ સાથે જોડાયેલ છે.

(D) $BaO$,$CaO$,અને $Na_2O$ ધાતુના ઓક્સાઇડ છે જે સ્વભાવે બેઝિક છે. જ્યારે તેઓ પાણી સાથે પ્રક્રિયા કરે છે,ત્યારે તેઓ ધાતુના હાઇડ્રોક્સાઇડ બનાવે છે,જેના પરિણામે $pH > 7$ મળે છે.
$P_2O_5$ એ અધાતુનો ઓક્સાઇડ છે જે સ્વભાવે એસિડિક છે. જ્યારે તે પાણી સાથે પ્રક્રિયા કરે છે,ત્યારે તે ફોસ્ફોરિક એસિડ $(H_3PO_4)$ બનાવે છે:
$P_2O_5 + 3H_2O \rightarrow 2H_3PO_4$
$H_3PO_4$ એ એસિડ હોવાથી,પરિણામી દ્રાવણની $pH < 7$ હશે.

(B) સાચો વિકલ્પ $B$ છે.
ફોસ્ફરસ એસિડ $(H_3PO_3)$ માં,ધારો કે $P$ નો ઓક્સિડેશન આંક $x$ છે.
$H$ નો ઓક્સિડેશન આંક $+1$ અને $O$ નો $-2$ છે.
ગણતરી: $3(+1) + x + 3(-2) = 0$.
$3 + x - 6 = 0$.
$x - 3 = 0$,તેથી $x = +3$.

(B) સિલિકોન અત્યંત વિદ્યુતધન ધાતુઓ (જેમ કે $Na$,$Mg$,$K$ વગેરે) સાથે સિલિસાઇડ બનાવે છે.
આ સંયોજનોમાં,સિલિકોન વધુ વિદ્યુતઋણ તત્વ તરીકે વર્તે છે અને $-4$ ઓક્સિડેશન આંક દર્શાવે છે.

(B) આવર્ત કોષ્ટકમાં,સમૂહમાં ઉપરથી નીચે તરફ જતાં ધાત્વીય ગુણધર્મ વધે છે.
સમૂહ $14$ માં કાર્બન $(C)$,સિલિકોન $(Si)$,જર્મેનિયમ $(Ge)$,ટીન $(Sn)$ અને લેડ $(Pb)$ નો સમાવેશ થાય છે.
કાર્બન અધાતુ છે,સિલિકોન અને જર્મેનિયમ અર્ધધાતુ છે,જ્યારે ટીન અને લેડ ધાત્વીય ગુણધર્મ ધરાવે છે.
લેડ $(Pb)$,જે સમૂહ $14$ નું છેલ્લું તત્વ છે,તે એક નિર્બળ ધાતુ છે.

(A) $CO$ એ તટસ્થ ઓક્સાઇડ છે.
તટસ્થ ઓક્સાઇડ એસિડ કે બેઝ સાથે પ્રક્રિયા કરતા નથી.
તટસ્થ ઓક્સાઇડના અન્ય ઉદાહરણોમાં $N_2O$ અને $NO$ નો સમાવેશ થાય છે.
$SnO_2$ અને $ZnO$ એ ઉભયગુણી (amphoteric) ઓક્સાઇડ છે,જ્યારે $SiO_2$ એ એસિડિક ઓક્સાઇડ છે.

(D) સમૂહ $14$ માં,જેમ આપણે સમૂહમાં નીચે જઈએ છીએ,તેમ $ns^2$ ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મની નિષ્ક્રિયતાને કારણે નિષ્ક્રિય યુગ્મ અસર (inert pair effect) વધુ પ્રબળ બને છે.
આના પરિણામે $+2$ ઓક્સિડેશન અવસ્થા દર્શાવવાની વૃત્તિ વધે છે અને $+4$ ઓક્સિડેશન અવસ્થા દર્શાવવાની વૃત્તિ ઘટે છે.
તેથી,સમૂહમાં નીચે જતાં $+2$ ઓક્સિડેશન અવસ્થાની સ્થિરતા વધે છે.

(D) $CaO$ એ બેઝિક ઓક્સાઈડ છે કારણ કે તે એસિડ સાથે પ્રક્રિયા કરીને ક્ષાર અને પાણી બનાવે છે.
$CO_2$ એ એસિડિક ઓક્સાઈડ છે કારણ કે તે બેઝ સાથે પ્રક્રિયા કરીને કાર્બોનેટ બનાવે છે.
$SiO_2$ એ નિર્બળ એસિડિક ઓક્સાઈડ છે.
$SnO_2$ એ ઉભયગુણી ઓક્સાઈડ છે,જેનો અર્થ છે કે તે એસિડ અને બેઝ બંને સાથે પ્રક્રિયા કરી શકે છે.

(D) જ્યારે $SiF_4$ નું જળવિભાજન થાય છે,ત્યારે તે પાણી સાથે પ્રક્રિયા કરીને ઓર્થોસિલિકિક એસિડ $(H_4SiO_4)$ અને હેક્ઝાફ્લોરોસિલિકિક એસિડ $(H_2SiF_6)$ બનાવે છે.
સંતુલિત રાસાયણિક સમીકરણ:
$3SiF_4 + 4H_2O \rightarrow H_4SiO_4 + 2H_2SiF_6$
આપેલા વિકલ્પોમાંથી,$H_2SiF_6$ એ બનતો એસિડ છે.

(C) પોલીફોસ્ફેટ્સ (જેમ કે સોડિયમ હેક્સામેટાફોસ્ફેટ અથવા $STPP$) નો ઉપયોગ પાણીને નરમ બનાવવા માટેના એજન્ટ તરીકે થાય છે કારણ કે તેઓ કઠિન પાણીમાં રહેલા $Ca^{2+}$ અને $Mg^{2+}$ જેવા ધાતુના કેટાયોન્સ સાથે દ્રાવ્ય સંકીર્ણો બનાવે છે,જેનાથી તેઓ સાબુ કે ડિટર્જન્ટ સાથે અવક્ષેપ બનાવતા અટકે છે.

(D) બ્લીચિંગ પાવડર $(CaOCl_2)$ સૂકા ફોડેલા ચૂના $(Ca(OH)_2)$ પર ક્લોરિન વાયુની પ્રક્રિયા દ્વારા ઉત્પન્ન થાય છે.
રાસાયણિક પ્રક્રિયા: $Ca(OH)_2 + Cl_2 \rightarrow CaOCl_2 + H_2O$.

(D) બ્લીચિંગ પાવડર $(CaOCl_2)$ એક આછા પીળા રંગનો પાવડર છે જે પાણીમાં અંશતઃ દ્રાવ્ય છે,કારણ કે તેમાં રહેલી અશુદ્ધિઓને લીધે થોડો ભાગ અદ્રાવ્ય રહે છે. તે મંદ એસિડ સાથે પ્રક્રિયા કરીને ક્લોરિન વાયુ મુક્ત કરે છે $(CaOCl_2 + H_2SO_4 \rightarrow CaSO_4 + H_2O + Cl_2)$. તે ઓક્સિડાઇઝિંગ એજન્ટ તરીકે કાર્ય કરે છે. 'તે પાણીમાં અત્યંત દ્રાવ્ય છે' તે વિધાન ખોટું છે કારણ કે તે પાણીમાં અલ્પ દ્રાવ્ય છે.

(A) પોર્ટલેન્ડ સિમેન્ટના મુખ્ય ઘટકો ચૂનો ($CaO$,$50-60\%$),સિલિકા ($SiO_2$,$20-25\%$),એલ્યુમિના ($Al_2O_3$,$5-10\%$) અને અન્ય ઓક્સાઇડની અલ્પ માત્રા છે. આપેલા વિકલ્પોમાંથી,ચૂના પછી સિલિકા સૌથી મહત્વનો ઘટક છે.

(C) કાર્બન $(C)$ ની ઇલેક્ટ્રોનીય રચના $2s^2 2p^2$ છે અને તેની સંયોજકતા કક્ષામાં $d$-કક્ષકોનો અભાવ હોવાથી તેની સહસંયોજકતા $4$ સુધી મર્યાદિત રહે છે.
સિલિકોન $(Si)$ ની ઇલેક્ટ્રોનીય રચના $3s^2 3p^2$ છે અને તેમાં ખાલી $3d$-કક્ષકો ઉપલબ્ધ હોય છે.
આ નીચી ઉર્જા ધરાવતી ખાલી $d$-કક્ષકોની ઉપલબ્ધતાને કારણે,સિલિકોન તેનું અષ્ટક વિસ્તારી શકે છે અને વધુ લિગેન્ડ્સને જોડી શકે છે,જેનાથી તે $6$ નો સવર્ગ આંક દર્શાવી શકે છે (દા.ત.,$[SiF_6]^{2-}$ માં).

(A) સિલિકોન ટેટ્રાક્લોરાઇડ $(SiCl_4)$ પાણીની હાજરીમાં જળવિભાજન પામીને સિલિકોન ડાયોક્સાઇડ $(SiO_2)$ અને હાઇડ્રોજન ક્લોરાઇડ $(HCl)$ બનાવે છે.
પ્રક્રિયા આ મુજબ છે: $SiCl_4 + 2H_2O \rightarrow SiO_2 + 4HCl$.

(C) પ્રયોગશાળામાં,સિલિકોન સિલિકા $(SiO_2)$ ની મેગ્નેશિયમ $(Mg)$ સાથેની પ્રક્રિયા દ્વારા બનાવવામાં આવે છે.
રાસાયણિક પ્રક્રિયા:
$SiO_2 + 2Mg \rightarrow Si + 2MgO$

(D) રેડ લેડને રાસાયણિક રીતે ટ્રાયલેડ ટેટ્રોક્સાઇડ કહેવામાં આવે છે,જેનું સૂત્ર $Pb_3O_4$ છે.
ગરમ કરવા પર,તે લેડ$(II)$ ઓક્સાઇડ $(PbO)$ અને ઓક્સિજન વાયુ $(O_2)$ માં વિઘટિત થાય છે:
$2Pb_3O_4(s) \rightarrow 6PbO(s) + O_2(g)$.

(A, D) કાર્બન પરિવાર $(Group \ 14)$ માં:
$1$. $C$ (કાર્બન) અધાતુ છે.
$2$. $Si$ (સિલિકોન) અર્ધધાતુ છે.
$3$. $Ge$ (જર્મેનિયમ) અર્ધધાતુ છે.
$4$. $Sn$ (ટીન) અને $Pb$ (લેડ) ધાતુઓ છે.
આમ,$Si$ અને $Ge$ બંને અર્ધધાતુઓ છે.

(B) 'લેડ પેન્સિલ' શબ્દ એક ખોટો નામકરણ છે. તેમાં સીસું $(Pb)$ હોતું નથી.
તેના બદલે,તેમાં $Graphite$ અને માટીનું મિશ્રણ હોય છે,જેનો ઉપયોગ પેન્સિલના ગર્ભ (core) તરીકે થાય છે.

(C) ઊંચા તાપમાને,$CaC_2$ (કેલ્શિયમ કાર્બાઇડ) $N_2$ વાયુ સાથે પ્રક્રિયા કરીને કેલ્શિયમ સાયનામાઇડ $(CaCN_2)$ અને કાર્બન બનાવે છે. પ્રક્રિયા આ મુજબ છે: $CaC_2 + N_2 \rightarrow CaCN_2 + C$. $CaCN_2$ અને $C$ ના આ મિશ્રણને નાઈટ્રોલીમ કહેવામાં આવે છે,જેનો ઉપયોગ ખાતર તરીકે થાય છે.

(A) પ્રયોગશાળામાં સિલિકોન બનાવવાની સાચી રીત સિલિકા $(SiO_2)$ નું મેગ્નેશિયમ ધાતુ સાથે રિડક્શન છે.
રાસાયણિક પ્રક્રિયા: $SiO_2 + 2Mg \to Si + 2MgO$.

(D) નિષ્ક્રિય યુગ્મ અસર એટલે $ns^2$ ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મનું બંધનમાં ભાગ લેવાની અનિચ્છા,જે $d$ અને $f$ કક્ષકોની નબળી શીલ્ડિંગ અસરને કારણે થાય છે.
જેમ આપણે $p$-બ્લોક તત્વોમાં સમૂહમાં ઉપરથી નીચે જઈએ છીએ તેમ આ અસર વધુ પ્રબળ બને છે.
સમૂહ $14$ ના આપેલા તત્વો $(C, Si, Ge, Sn, Pb)$ માં,$Pb$ સમૂહમાં સૌથી નીચે છે.
તેથી,$Pb$ માં નિષ્ક્રિય યુગ્મ અસર સૌથી વધુ જોવા મળે છે.

(A) કાચ મુખ્યત્વે સિલિકા $(SiO_2)$ નો બનેલો છે. જ્યારે તે હાઇડ્રોફ્લોરિક એસિડ $(HF)$ સાથે પ્રક્રિયા કરે છે,ત્યારે તે સિલિકોન ટેટ્રાફ્લોરાઇડ $(SiF_4)$ અને પાણી બનાવે છે.
પ્રક્રિયા આ મુજબ છે: $SiO_2 + 4HF \rightarrow SiF_4 + 2H_2O$.
વધુમાં,$SiF_4$ વધારાના $HF$ સાથે પ્રક્રિયા કરીને હાઇડ્રોફ્લોરોસિલિકિક એસિડ $(H_2SiF_6)$ બનાવી શકે છે,પરંતુ કાચ સાથેની પ્રક્રિયાની મુખ્ય નીપજ $SiF_4$ છે.

(A) સ્મોક સ્ક્રીન એ ગાઢ કૃત્રિમ ધુમાડાનો સમૂહ છે જેનો ઉપયોગ લશ્કરી વિસ્તારો અથવા કામગીરીને દુશ્મનથી છુપાવવા માટે થાય છે. તે કેલ્શિયમ ફોસ્ફાઇડ $(Ca_3P_2)$ દ્વારા ઉત્પન્ન થાય છે.
જ્યારે $Ca_3P_2$ પાણી સાથે પ્રતિક્રિયા આપે છે,ત્યારે તે ફોસ્ફિન ગેસ $(PH_3)$ ઉત્પન્ન કરે છે:
$Ca_3P_2 + 6H_2O \rightarrow 3Ca(OH)_2 + 2PH_3$
બનેલ ફોસ્ફિન $(PH_3)$ હવામાં આપમેળે આગ પકડી લે છે અને ફોસ્ફરસ પેન્ટોક્સાઇડ $(P_2O_5)$ ઉત્પન્ન કરે છે:
$2PH_3 + 4O_2 \rightarrow P_2O_5 + 3H_2O$
$P_2O_5$ એક સફેદ,ગાઢ સ્મોક સ્ક્રીન બનાવે છે.

(A) એરેટેડ પાણી એ એવું પાણી છે જેમાં કૃત્રિમ રીતે મોટા પ્રમાણમાં વાયુ,ખાસ કરીને $carbon \ dioxide$ $(CO_2)$ ઉમેરવામાં આવે છે.
આ વાયુને કાં તો દબાણ હેઠળ કૃત્રિમ રીતે દાખલ કરવામાં આવે છે અથવા તે કુદરતી ભૌગોલિક પ્રક્રિયાઓને કારણે ઉદ્ભવે છે.

(A) સિલિકોન એ સિલિકા $(SiO_2)$ અને સિલિકેટ્સના સ્વરૂપમાં ખડકોનો મહત્વનો ઘટક છે.
$A$. ખડકો: સિલિકોન એ પૃથ્વીના પોપડામાં સિલિકા અને સિલિકેટ્સના સ્વરૂપમાં મુખ્ય ઘટક છે.
$B$. એમલગમ: આ પારો $(Hg)$ અને અન્ય ધાતુઓની મિશ્રધાતુઓ છે.
$C$. ક્લોરોફિલ: આ રંજકદ્રવ્યના કેન્દ્રમાં મેગ્નેશિયમ $(Mg)$ હોય છે.
$D$. હિમોગ્લોબિન: આ પ્રોટીનમાં આયર્ન $(Fe)$ તેના કેન્દ્રીય ધાતુ આયન તરીકે હોય છે.

(D) $SiF_4$ નું જળવિભાજન બે તબક્કામાં થાય છે.
પ્રથમ,$SiF_4$ પાણી સાથે પ્રક્રિયા કરીને સિલિસિક એસિડ $(Si(OH)_4)$ અને હાઇડ્રોફ્લોરિક એસિડ $(HF)$ બનાવે છે.
$SiF_4 + 4H_2O \rightarrow Si(OH)_4 + 4HF$.
ત્યારબાદ ઉત્પન્ન થયેલ $HF$ વધારાના $SiF_4$ સાથે પ્રક્રિયા કરીને ફ્લોરોસિલિસિક એસિડ બનાવે છે: $2HF + SiF_4 \rightarrow H_2SiF_6$.
જોકે,$SiF_4$ ના જળવિભાજનની મુખ્ય નીપજ $Si(OH)_4$ (ઓર્થોસિલિસિક એસિડ) છે.

(B) ઝીઓલાઇટ્સ એ ત્રિ-પરિમાણીય નેટવર્ક માળખું ધરાવતા એલ્યુમિનોસિલિકેટ્સ છે.
આ માળખામાં,કેટલાક $SiO_4$ એકમો $AlO_4$ ટેટ્રાહેડ્રા દ્વારા બદલાય છે.
તેમાં $AlO_6$ એકમો હોતા નથી.
તેથી,$SiO_4^{4-}$ એકમો $AlO_4^{5-}$ અને $AlO_6^{9-}$ આયનો દ્વારા બદલાય છે તે વિધાન ખોટું છે.
ઝીઓલાઇટ્સ ખુલ્લું,પાંજરા જેવું માળખું ધરાવે છે જે તેમને કેશન એક્સચેન્જર તરીકે કામ કરવા અને નાના અણુઓને શોષવા દે છે.

(C) સાચો વિકલ્પ $(C)$ છે.
$Pb_3O_4$ (રેડ લેડ) એ એક મિશ્ર ઓક્સાઈડ છે.
તે લેડના બે ઓક્સાઈડ,$PbO$ અને $PbO_2$ નું $2:1$ મોલર પ્રમાણમાં બનેલું છે.
તેને $2PbO \cdot PbO_2$ તરીકે દર્શાવી શકાય છે.

(D) સાચો જવાબ $(d)$ છે.
કાર્બન પરિવાર (સમૂહ $14$) માં,જેમ આપણે સમૂહમાં નીચે જઈએ છીએ,તેમ $d$ અને $f$ ઇલેક્ટ્રોન દ્વારા નબળા શીલ્ડિંગને કારણે ઇનર્ટ પેર ઇફેક્ટને લીધે $+2$ ઓક્સિડેશન અવસ્થાની સ્થિરતા વધે છે.

(D) શીટ સિલિકેટ્સમાં,$[SiO_4]^{4-}$ એકમના ચારમાંથી ત્રણ ઓક્સિજન પરમાણુઓ વહેંચાયેલા હોય છે.
પાયરોસિલિકેટ્સમાં,માત્ર એક ઓક્સિજન પરમાણુ વહેંચાયેલો હોય છે.
રેખીય સાંકળ સિલિકેટ્સમાં,પ્રતિ ટેટ્રાહેડ્રોન બે ઓક્સિજન પરમાણુઓ વહેંચાયેલા હોય છે.
ત્રિ-પરિમાણીય સિલિકેટ્સમાં,ચારેય ઓક્સિજન પરમાણુઓ વહેંચાયેલા હોય છે.

(A) $Pb_3O_4$ ને રેડ લેડ અથવા મિનિયમ તરીકે ઓળખવામાં આવે છે.
તે લેડનું મિશ્ર ઓક્સાઈડ છે,જેને $2PbO \cdot PbO_2$ તરીકે દર્શાવી શકાય છે.

(C) વ્હાઇટ લેડનું રાસાયણિક સૂત્ર $2PbCO_3 \cdot Pb(OH)_2$ છે.
તે બેઝિક લેડ કાર્બોનેટ છે.

(C) સંયોજનનો આયનીય સ્વભાવ બંધિત પરમાણુઓ વચ્ચેની વિદ્યુતઋણતાના તફાવત અને ધાતુની ઓક્સિડેશન અવસ્થા પર આધાર રાખે છે.
જેમ આપણે સમૂહ $14$ માં નીચે જઈએ છીએ,તેમ તત્વોનો ધાત્વીય ગુણધર્મ વધે છે,જે તેમના હેલાઈડ્સની આયનીય પ્રકૃતિમાં વધારો કરે છે.
વધુમાં,નિષ્ક્રિય યુગ્મ અસર (inert pair effect) ને કારણે,$Pb$ જેવા ભારે તત્વો માટે નીચી ઓક્સિડેશન અવસ્થા $(+2)$ વધુ સ્થાયી બને છે.
$PbCl_2$ માં $Pb$ એ $+2$ ઓક્સિડેશન અવસ્થામાં છે,જે સહસંયોજક $PbCl_4$ (જ્યાં $Pb$ એ $+4$ અવસ્થામાં છે) અને $C$ તથા $Si$ જેવા હલકા તત્વોના સહસંયોજક હેલાઈડ્સની સરખામણીમાં વધુ આયનીય છે.
તેથી,આપેલા વિકલ્પોમાંથી $PbCl_2$ સૌથી વધુ આયનીય સંયોજન છે.

(B) લેડ ડાયોક્સાઇડ,$PbO_2$,એક પ્રબળ ઓક્સિડેશનકર્તા છે. તેનો ઉપયોગ દીવાસળી,રંગો અને રબરના વિકલ્પોના ઉત્પાદનમાં વ્યાપકપણે થાય છે.

(C) $Pb_3O_4$ (રેડ લેડ) એ એક મિશ્ર ઓક્સાઈડ છે,જે $2PbO$ (લેડ$(II)$ ઓક્સાઈડ) અને $PbO_2$ (લેડ$(IV)$ ઓક્સાઈડ) ના સંયોજનથી બને છે.
$2PbO + PbO_2 \rightarrow Pb_3O_4$

(B) આપેલા તત્વોમાંથી,ટીન $(Sn)$ અપરરૂપતાની ઘટના દર્શાવે છે.
$\beta$-ટીન (ધાતુ સ્વરૂપ,અથવા સફેદ ટીન),જે ઓરડાના તાપમાને અને તેનાથી ઉપર સ્થિર હોય છે,તે ટીપી શકાય તેવું (malleable) હોય છે.
તેનાથી વિપરીત,$\alpha$-ટીન (અધાતુ સ્વરૂપ,અથવા ગ્રે ટીન),જે $13.2^{\circ}C$ થી નીચે સ્થિર હોય છે,તે બરડ (brittle) હોય છે.

(B) વિઘટનની પ્રતિક્રિયાઓ નીચે મુજબ છે:
$1. \text{એમોનિયમ નાઈટ્રેટ: } NH_4NO_{3(s)} \xrightarrow{\Delta} 2H_2O_{(g)} + N_2O_{(g)}$
$2. \text{સોડિયમ નાઈટ્રેટ: } 2NaNO_{3(s)} \xrightarrow{\Delta} 2NaNO_{2(s)} + O_{2(g)}$
$3. \text{સિલ્વર નાઈટ્રેટ: } 2AgNO_{3(s)} \xrightarrow{\Delta} 2Ag_{(s)} + 2NO_{2(g)} + O_{2(g)}$
$4. \text{લેડ નાઈટ્રેટ: } 2Pb(NO_3)_{2(s)} \xrightarrow{\Delta} 2PbO_{(s)} + 4NO_{2(g)} + O_{2(g)}$
આમાં,$NH_4NO_3$ સંપૂર્ણપણે વાયુરૂપ નીપજોમાં વિઘટન પામે છે,જે કોઈ ઘન અવશેષ છોડતું નથી. તેથી,સાચો વિકલ્પ $(B)$ છે.

(C) અધાતુઓ એસિડિક ઓક્સાઈડ બનાવે છે. ફોસ્ફરસ એક અધાતુ છે જે ઘન ઓક્સાઈડ $P_4O_{10}$ (અથવા $P_2O_5$) બનાવે છે.
$P_4 + 5O_2 \to P_4O_{10}$
જ્યારે $P_4O_{10}$ પાણીમાં ઓગળે છે,ત્યારે તે ફોસ્ફોરિક એસિડ બનાવે છે,જે એક એસિડિક દ્રાવણ છે:
$P_4O_{10} + 6H_2O \to 4H_3PO_4$
આમ,સાચું તત્વ ફોસ્ફરસ છે.

(A) સફેદ ફોસ્ફરસને પાણીમાં રાખવામાં આવે છે જેથી તે વાતાવરણીય ઓક્સિજનના સંપર્કમાં ન આવે,કારણ કે તેનું ઇગ્નીશન તાપમાન ખૂબ જ ઓછું એટલે કે આશરે $30\,^{\circ}C$ હોય છે અને તે હવામાં આપમેળે સળગી ઉઠે છે.

(C) લેડ નાઈટ્રેટ $(Pb(NO_3)_2)$ ને સખત ગરમ કરવાથી થતું ઉષ્મીય વિઘટન નીચે મુજબના રાસાયણિક સમીકરણ દ્વારા દર્શાવવામાં આવે છે:
$2Pb(NO_3)_2(s) \rightarrow 2PbO(s) + 4NO_2(g) + O_2(g)$
પ્રક્રિયામાં દર્શાવ્યા મુજબ,મુક્ત થતા વાયુઓ નાઈટ્રોજન ડાયોક્સાઈડ $(NO_2)$ અને ઓક્સિજન $(O_2)$ છે.

(B) જ્યારે કેલ્શિયમ કાર્બાઈડ $(CaC_2)$ ને $500 - 600 ^\circ C$ તાપમાને નાઈટ્રોજન સાથે ગરમ કરવામાં આવે છે,ત્યારે તે કેલ્શિયમ સાયનેમાઈડ $(CaCN_2)$ અને કાર્બન $(C)$ બનાવે છે.
આ મિશ્રણને નાઈટ્રોલીમ તરીકે ઓળખવામાં આવે છે.
રાસાયણિક પ્રક્રિયા નીચે મુજબ છે:
$CaC_2 + N_2 \xrightarrow{500 - 600 ^\circ C} CaCN_2 + C$

(D) લાઈમનું સુપરફોસ્ફેટ એ કેલ્શિયમ ડાયહાઈડ્રોજન ફોસ્ફેટ,$Ca(H_{2}PO_{4})_{2}$,અને કેલ્શિયમ સલ્ફેટ,$CaSO_{4}$ નું મિશ્રણ છે.
તે ફોસ્ફેટ રોક (ફ્લોરાપેટાઈટ અથવા ફોસ્ફોરાઈટ) પર સલ્ફ્યુરિક એસિડની પ્રક્રિયા દ્વારા તૈયાર કરવામાં આવે છે.
પ્રક્રિયા આ મુજબ છે: $Ca_{3}(PO_{4})_{2} + 2H_{2}SO_{4} \rightarrow Ca(H_{2}PO_{4})_{2} + 2CaSO_{4}$.

(D) સુપરફોસ્ફેટ ઓફ લાઈમ એ ફોસ્ફેટ રોક (કેલ્શિયમ ફોસ્ફેટ) પર સાંદ્ર સલ્ફ્યુરિક એસિડની પ્રક્રિયા દ્વારા ઉત્પન્ન થાય છે.
રાસાયણિક પ્રક્રિયા આ મુજબ છે: $Ca_3(PO_4)_2 + 2H_2SO_4 + 4H_2O \rightarrow Ca(H_2PO_4)_2 \cdot H_2O + 2CaSO_4 \cdot 2H_2O$.
આમ,તે મોનોકેલ્શિયમ ફોસ્ફેટ મોનોહાઇડ્રેટ અને કેલ્શિયમ સલ્ફેટ ડાયહાઇડ્રેટનું મિશ્રણ છે.

(B) $P_4O_{10}$ એ એસિડિક ઓક્સાઈડ છે,જ્યારે $NH_3$ એ બેઝિક વાયુ છે.
જ્યારે $NH_3$ ને સૂકવવા માટે $P_4O_{10}$ પરથી પસાર કરવામાં આવે છે,ત્યારે તેઓ એકબીજા સાથે પ્રતિક્રિયા કરીને એમોનિયમ ફોસ્ફેટ બનાવે છે.
તેથી,$P_4O_{10}$ નો ઉપયોગ $NH_3$ માટે સૂકવનાર પદાર્થ તરીકે થઈ શકતો નથી.

(C) $P_2O_5$ (ફોસ્ફરસ પેન્ટોક્સાઈડ) પાણી પ્રત્યે ખૂબ જ આકર્ષણ ધરાવે છે.
તેનો ઉપયોગ પ્રયોગશાળાઓ અને ઉદ્યોગોમાં વિવિધ કાર્બનિક અને અકાર્બનિક સંયોજનોમાંથી પાણી દૂર કરવા માટે શક્તિશાળી નિર્જલીકરણ કર્તા તરીકે વ્યાપકપણે થાય છે.

(C) સેફ્ટી માચીસની પેટીની બાજુઓ પર કાચનો પાવડર અને લાલ ફોસ્ફરસ $(P_4)$ નું મિશ્રણ લગાવેલું હોય છે. માચીસની સળીના માથામાં પોટેશિયમ ક્લોરેટ $(KClO_3)$,એન્ટિમની સલ્ફાઇડ $(Sb_2S_3)$ અને ગુંદર હોય છે. જ્યારે સળીને પેટીની બાજુ પર ઘસવામાં આવે છે,ત્યારે ઉત્પન્ન થતી ગરમી લાલ ફોસ્ફરસને સફેદ ફોસ્ફરસમાં રૂપાંતરિત કરે છે,જે પોટેશિયમ ક્લોરેટ સાથે પ્રક્રિયા કરીને એન્ટિમની સલ્ફાઇડને સળગાવવા માટે પૂરતી ગરમી ઉત્પન્ન કરે છે.

(C) બોન બ્લેક એ $Carbon$ નું અશુદ્ધ સ્વરૂપ છે. તે હાડકાંના વિનાશક નિસ્યંદન દ્વારા મેળવવામાં આવે છે. તેમાં કેલ્શિયમ ફોસ્ફેટ $(Ca_3(PO_4)_2)$ ના છિદ્રાળુ માળખા પર જમા થયેલ લગભગ $10-12\%$ ઝીણું વિભાજિત $Carbon$ હોય છે.