प्रकाश-विद्युत प्रभाव के एक प्रयोग में,$f$ धातु की सतह पर आपतित विकिरणों की आवृत्ति है और $I$ आपतित विकिरणों की तीव्रता है। निम्नलिखित कथनों पर विचार करें। कौन से कथन सही हैं?
$(A)$ यदि $I$ और कार्य फलन (work function) को स्थिर रखकर $f$ को बढ़ाया जाता है,तो फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गतिज ऊर्जा बढ़ जाती है।
$(B)$ यदि कैथोड और एनोड के बीच की दूरी बढ़ाई जाती है,तो निरोधी विभव (stopping potential) बढ़ जाता है।
$(C)$ यदि $f$ और कार्य फलन को स्थिर रखकर $I$ को बढ़ाया जाता है,तो निरोधी विभव समान रहता है और संतृप्ति धारा (saturation current) बढ़ जाती है।
$(D)$ यदि $f$ और $I$ को स्थिर रखकर कार्य फलन को घटाया जाता है,तो निरोधी विभव बढ़ जाता है।

  • A
    $A, B$ और $C$
  • B
    $B, C$ और $D$
  • C
    $A, C$ और $D$
  • D
    केवल $A$

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