समूह-II के बेसिक रेडिकल्स के विश्लेषण में,तनु | vedclass

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Question

(C) समूह-$II$ के बेसिक रेडिकल्स उनके सल्फाइड के रूप में अवक्षेपित होते हैं। $H_2S$ एक दुर्बल विद्युत अपघट्य है और इसका वियोजन इस प्रकार होता है: $H_2S

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$H_2S$ का वियोजन घट जाता है।

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(C) समूह-$II$ के बेसिक रेडिकल्स उनके सल्फाइड के रूप में अवक्षेपित होते हैं। $H_2S$ एक दुर्बल विद्युत अपघट्य है और इसका वियोजन इस प्रकार होता है: $H_2S \rightleftharpoons 2H^+ + S^{2-}$. तनु $HCl$ की उपस्थिति में,सम-आयन प्रभाव (common ion effect) के कारण $H^+$ आयनों की सांद्रता बढ़ जाती है। ला-शातेलिए के सिद्धांत के अनुसार,यह $H_2S$ के वियोजन को कम कर देता है,जिससे $S^{2-}$ आयनों की सांद्रता कम हो जाती है। $S^{2-}$ की यह कम सांद्रता समूह-$II$ के सल्फाइड के विलेयता गुणनफल $(K_{sp})$ को पार करने के लिए पर्याप्त है,लेकिन समूह-$IV$ के सल्फाइड के लिए नहीं,जिससे चयनात्मक अवक्षेपण (selective precipitation) संभव होता है।

धनायन (Cations)	समूह अभिक्रिया
$P \rightarrow Pb^{2+}, Cu^{2+}$	$(i)$ तनु $HCl$ की उपस्थिति में $H_2S$ गैस
$Q \rightarrow Al^{3+}, Fe^{3+}$	$(ii)$ $NH_4OH$ की उपस्थिति में $(NH_4)_2CO_3$
$R \rightarrow Co^{2+}, Ni^{2+}$	$(iii)$ $NH_4Cl$ की उपस्थिति में $NH_4OH$
$S \rightarrow Ba^{2+}, Ca^{2+}$	$(iv)$ $NH_4OH$ की उपस्थिति में $H_2S$

समूह-$II$ के बेसिक रेडिकल्स के विश्लेषण में,तनु $HCl$ की उपस्थिति में $H_2S$ गैस प्रवाहित की जाती है क्योंकि...

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