(N/A) ધાતુની સપાટી પરથી ઇલેક્ટ્રોનનું ઉત્સર્જન નીચેની પદ્ધતિઓ દ્વારા મેળવી શકાય છે:
$(1)$ ઉષ્મીય ઉત્સર્જન (Thermionic emission): જ્યારે ધાતુઓને ગરમ કરવામાં આવે છે (દા.ત. ધાતુના ફિલામેન્ટમાંથી વિદ્યુતપ્રવાહ પસાર કરીને),ત્યારે ઇલેક્ટ્રોનને કાર્ય વિધેય (work function) જેટલી પૂરતી ઉષ્મીય ઉર્જા મળે છે,જેથી તેઓ ધાતુની સપાટીમાંથી બહાર નીકળી શકે છે. આ ઉત્સર્જનને ઉષ્મીય ઉત્સર્જન કહે છે.
ઉદાહરણ: ડાયોડ,ટ્રાયોડ અથવા ટીવી ટ્યુબમાં ઉષ્મીય ઉત્સર્જનનો ઉપયોગ કરીને ઇલેક્ટ્રોન ઉત્સર્જિત કરવામાં આવે છે.
$(2)$ ક્ષેત્ર ઉત્સર્જન (Field emission): જ્યારે ધાતુની સપાટી પર $10^{8} \text{ V/m}$ ના ક્રમનું ખૂબ જ પ્રબળ વિદ્યુતક્ષેત્ર લગાડવામાં આવે છે,ત્યારે ઇલેક્ટ્રોન સપાટીમાંથી બહાર ખેંચાય છે. આ ઉત્સર્જનને ક્ષેત્ર ઉત્સર્જન કહે છે.
$(3)$ ફોટોઇલેક્ટ્રિક ઉત્સર્જન (Photoelectric emission): જ્યારે યોગ્ય આવૃત્તિ ધરાવતું વિદ્યુતચુંબકીય વિકિરણ (થ્રેશોલ્ડ આવૃત્તિ કરતા વધારે) શુદ્ધ ધાતુની સપાટી પર આપાત કરવામાં આવે છે,ત્યારે તેમાંથી ઇલેક્ટ્રોન ઉત્સર્જિત થાય છે. આ ઉત્સર્જનને ફોટોઇલેક્ટ્રિક ઉત્સર્જન કહે છે અને ઉત્સર્જિત ઇલેક્ટ્રોનને ફોટોઇલેક્ટ્રોન કહેવામાં આવે છે.