નીચેનામાંથી કોની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી સૌથી વધુ ઋણ અને કોની સૌથી ઓછી ઋણ હશે?
$P, S, Cl, F$
તમારા જવાબની સમજૂતી આપો.

નીચેનામાંથી કઈ પ્રક્રિયા માટે મુક્ત થતી ઉર્જા સૌથી વધુ છે?

નીચેનામાંથી કઈ સ્પીસીઝની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી (electron affinity) સૌથી વધુ છે?

કઈ ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પી પ્રક્રિયામાં સૌથી વધુ ઉર્જા મુક્ત થશે?

ઓક્સિજન પરમાણુમાંથી ઓક્સાઇડ આયન $O^{2-}$ ના નિર્માણ માટે ઉષ્માક્ષેપક પ્રક્રિયાની જરૂર પડે છે,ત્યારબાદ નીચે દર્શાવ્યા મુજબ ઉષ્માશોષક તબક્કો આવે છે. વાયુ અવસ્થામાં $O^{2-}$ ના નિર્માણની પ્રક્રિયા પ્રતિકૂળ $(\Delta H^{\ominus} = +ve)$ છે,ભલે તેની પાસે નજીકના નિષ્ક્રિય વાયુ નિયોન જેવી સ્થાયી ઇલેક્ટ્રોન રચના હોય. આનું કારણ શું છે?
$O_{(g)} + e^{-} \longrightarrow O^{-}_{(g)} ; \Delta H^{\ominus} = -141 \ kJ \ mol^{-1}$
$O^{-}_{(g)} + e^{-} \longrightarrow O^{2-}_{(g)} ; \Delta H^{\ominus} = +760 \ kJ \ mol^{-1}$

નીચેનામાંથી કયા વિકલ્પમાં તત્વોને તેમની ઇલેક્ટ્રોન પ્રાપ્તિ એન્થાલ્પીના સાચા ક્રમમાં ગોઠવવામાં આવ્યા છે?