एक धातु की देहली आवृत्ति (threshold frequency) $F_0$ है। जब $2F_0$ आवृत्ति का प्रकाश धातु की प्लेट पर आपतित होता है,तो फोटोइलेक्ट्रॉन का अधिकतम वेग $V_1$ है। जब आपतित विकिरण की आवृत्ति को बढ़ाकर $5F_0$ कर दिया जाता है,तो उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉन का अधिकतम वेग $V_2$ है। $V_1$ और $V_2$ का अनुपात क्या है?

$5\, eV$ ऊर्जा वाले फोटॉन एक फोटोइलेक्ट्रिक सेल में कैथोड $C$ पर आपतित होते हैं। उत्सर्जित फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम ऊर्जा $2\, eV$ है। जब $6\, eV$ ऊर्जा वाले फोटॉन $C$ पर आपतित होते हैं,तो कोई भी फोटोइलेक्ट्रॉन एनोड $A$ तक नहीं पहुँचेगा,यदि $C$ के सापेक्ष $A$ का निरोधी विभव (stopping potential) ............ $V$ हो।

पोटेशियम और टंगस्टन के लिए निरोधी विभव (stopping potential) $V_0$ और प्रकाश की आवृत्ति $\nu$ के बीच सही संबंध दर्शाने वाला चित्र है

$1.8\, eV$ कार्य फलन वाली धातु से प्रकाश-विद्युत उत्सर्जन की प्रक्रिया में,सबसे अधिक ऊर्जा वाले इलेक्ट्रॉनों की गतिज ऊर्जा $0.5\, eV$ है। संबंधित निरोधी विभव (stopping potential) ......... $V$ है।

जब $v_{1}$ आवृत्ति का प्रकाश $W$ कार्य फलन (work function) वाली धातु पर आपतित होता है (जहाँ $h v_{1} > W$),तो फोटोकरंट $V_{1}$ के निरोधी विभव (stopping potential) पर शून्य हो जाता है। यदि प्रकाश की आवृत्ति को बढ़ाकर $v_{2}$ कर दिया जाए,तो निरोधी विभव बदलकर $V_{2}$ हो जाता है। अतः,इलेक्ट्रॉन का आवेश $e$ किसके द्वारा दिया जाता है?

$\lambda$ तरंगदैर्ध्य का एकवर्णी प्रकाश $2.4 \text{ eV}$ कार्य फलन $(\phi)$ वाली धातु की सतह से फोटोइलेक्ट्रॉन उत्सर्जित करता है। इन फोटोइलेक्ट्रॉनों को मूल अवस्था (ground state) में हाइड्रोजन परमाणुओं के साथ टकराया जाता है। $\lambda$ का वह अधिकतम मान ज्ञात कीजिए जिसके लिए हाइड्रोजन परमाणु का आयनीकरण हो सके [लीजिए, $hc = 1240 \text{ eV-nm}$]. ($\text{ nm}$ में)