किसी पदार्थ के वाष्पीकरण की गुप्त ऊष्मा हमेशा

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Question

(A) वाष्पीकरण की गुप्त ऊष्मा $(L_v)$ हमेशा गलन की गुप्त ऊष्मा $(L_f)$ से अधिक होती है।इसका कारण यह है कि द्रव से वाष्प अवस्था में परिवर्तन के दौरान,पद

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उसकी गलन की गुप्त ऊष्मा से अधिक होती है

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(A) वाष्पीकरण की गुप्त ऊष्मा $(L_v)$ हमेशा गलन की गुप्त ऊष्मा $(L_f)$ से अधिक होती है।इसका कारण यह है कि द्रव से वाष्प अवस्था में परिवर्तन के दौरान,पदार्थ के आयतन में काफी वृद्धि होती है,जिसके लिए बाहरी दबाव के विरुद्ध काफी कार्य करना पड़ता है।इसके अतिरिक्त,द्रव में मौजूद अंतर-आणविक बलों को गैस में बदलने के लिए पूरी तरह से तोड़ना पड़ता है,जबकि ठोस से द्रव में परिवर्तन के दौरान,ये बल केवल आंशिक रूप से कमजोर होते हैं।इसलिए,गलन प्रक्रिया की तुलना में वाष्पीकरण के लिए अधिक ऊष्मीय ऊर्जा की आवश्यकता होती है।

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