ઉપરની પ્રક્રિયામાં નીપજ $(A)$ અને $(B)$ અનુક્રમે શું છે?

નીચેની પ્રક્રિયામાં મુખ્ય નીપજ કઈ છે?

$C_9H_{10}O_2$ અણુસૂત્ર ધરાવતો એસ્ટર $(A)$ ને વધુ પ્રમાણમાં $CH_3MgBr$ સાથે પ્રક્રિયા કરાવવામાં આવે છે. બનતી નીપજને સાંદ્ર $H_2SO_4$ સાથે પ્રક્રિયા કરતાં ઓલેફીન $(B)$ બને છે. $(B)$ નું ઓઝોનાલિસિસ $C_8H_8O$ સૂત્રવાળો કિટોન આપે છે. તો $(A)$ નું બંધારણ શું હશે?

વિધાન: એસીટામાઈડમાં ઈથાઈલ એસીટોએસીટેટ કરતા વધુ ધ્રુવીય $C=O$ સમૂહ હોય છે.
કારણ: $-\ddot{N}H_{2}$ એ $-\ddot{O}C_{2}H_{5}$ કરતા વધુ ઈલેક્ટ્રોન દાતા છે.

નીચેના સંયોજનો માટે ઓળખ કસોટીઓ આપો:
$(1)$ ફિનોલ અને કાર્બોક્સિલિક એસિડ
$(2)$ ફોર્મિક એસિડ અને એસિટિક એસિડ
$(3)$ એસિટિક એસિડ અને ઇથેનોલ
$(4)$ એસિટિક એસિડ અને એસિટોન
$(5)$ આલ્ડિહાઇડ અને કીટોન
$(6)$ એસિટઆલ્ડિહાઇડ અને એસિટોન
$(7)$ એસિટઆલ્ડિહાઇડ અને ફોર્મઆલ્ડિહાઇડ
$(8)$ બેન્ઝઆલ્ડિહાઇડ અને એસિટઆલ્ડિહાઇડ

સ્તંભ-$I$ માં આપેલા પ્રક્રિયકને સ્તંભ-$II$ માં આપેલી પ્રક્રિયા સાથે જોડો:

સ્તંભ-$I$	સ્તંભ-$II$
$(i)$ એસિટિક એસિડ	$(a)$ સ્ટીફન
$(ii)$ સોડિયમ ફિનેટ	$(b)$ ફ્રિડલ-ક્રાફ્ટસ
$(iii)$ મિથાઈલ સાયનાઈડ	$(c)$ $HVZ$
$(iv)$ ટોલ્યુઈન	$(d)$ કોલ્બે