एक प्रकाश-संवेदी पदार्थ पर,जब आपतित विकिरण की आवृत्ति में $20 \%$ की वृद्धि की जाती है,तो उत्सर्जित प्रकाशिक इलेक्ट्रॉनों की अधिकतम गतिज ऊर्जा $0.4 \ eV$ से बढ़कर $0.7 \ eV$ हो जाती है। पदार्थ का कार्य फलन (work function) है ($eV$ में)

  • A
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    $1.1$
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एक धात्विक सतह का कार्य फलन (work function) $5.01\ eV$ है। जब इस पर $2000\ \mathring{A}$ तरंगदैर्ध्य का प्रकाश आपतित होता है,तो फोटोइलेक्ट्रॉन उत्सर्जित होते हैं। सबसे तेज़ फोटोइलेक्ट्रॉनों को रोकने के लिए आवश्यक न्यूनतम विभवांतर ................. $V$ है।

Difficult
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प्रकाश-विद्युत प्रभाव में,निरोधी विभव $(V_0)$ बनाम आवृत्ति $(\nu)$ का ग्राफ खींचा जाता है। ($h$ प्लांक नियतांक है और $\phi_0$ धातु का कार्य फलन है)
$(A)$ $V_0$ बनाम $\nu$ रैखिक है।
$(B)$ $V_0$ बनाम $\nu$ ग्राफ की ढाल $= \frac{\phi_0}{h}$ है।
$(C)$ प्लांक नियतांक $h$,$V_0$ बनाम $\nu$ रेखा की ढाल से संबंधित है।
$(D)$ $V_0$ बनाम $\nu$ ग्राफ का उपयोग करके $h$ निर्धारित करने के लिए इलेक्ट्रॉन के विद्युत आवेश के मान की आवश्यकता नहीं है।
$(E)$ $h$ का मान जाने बिना कार्य फलन का अनुमान लगाया जा सकता है।
नीचे दिए गए विकल्पों में से सही उत्तर चुनें:

प्रकाश-विद्युत प्रभाव के मामले में,मापे गए निरोधी विभव $(V_0)$ और आपतित प्रकाश की आवृत्ति $(\nu)$ के बीच का ग्राफ एक सीधी रेखा है। इस रेखा के ढाल (slope) को इलेक्ट्रॉन के आवेश $(e)$ से गुणा करने पर क्या प्राप्त होता है?

सोडियम और कॉपर के लिए कार्य फलन (work function) क्रमशः $2 \ eV$ और $4 \ eV$ हैं। $4000 \ \mathring{A}$ प्रकाश का उपयोग करने वाले फोटोसेल के लिए इनमें से कौन सा उपयुक्त है?

जब $\lambda$ तरंगदैर्ध्य का विकिरण एक धात्विक सतह पर आपतित होता है,तो निरोधी विभव (stopping potential) $4.8 \ V$ होता है। यदि उसी सतह को दोगुनी तरंगदैर्ध्य के विकिरण से प्रकाशित किया जाता है,तो निरोधी विभव $1.6 \ V$ हो जाता है। तो सतह के लिए देहली तरंगदैर्ध्य (threshold wavelength) क्या है?

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