નીચેના વિધાનોનું અવલોકન કરો:
$I$. તત્વોના ભૌતિક અને રાસાયણિક ગુણધર્મો તેમની ઇલેક્ટ્રોનિક રચનાના આવર્તનીય વિધેયો છે.
$II$. ફ્લોરિનની વિદ્યુતઋણતા ક્લોરિનની વિદ્યુતઋણતા કરતા ઓછી છે.
$III$. સમૂહમાં ઉપરથી નીચે તરફ જતાં વિદ્યુતધનાત્મક સ્વભાવ ઘટે છે.
સાચો જવાબ છે:

  • A
    $I, II$ અને $III$ સાચા છે
  • B
    માત્ર $I$ સાચું છે
  • C
    માત્ર $I$ અને $II$ સાચા છે
  • D
    માત્ર $II$ અને $III$ સાચા છે

Explore More

Similar Questions

નીચેનામાંથી કઈ ગોઠવણીમાં ક્રમ તેની સામે દર્શાવેલ ગુણધર્મ મુજબ $NOT$ (નથી)?

કૉલમ-$I$ ને કૉલમ-$II$ સાથે જોડો
$A. S \rightarrow S^{-}$ $P. {\text{ઉષ્માશોષક પ્રક્રિયા}}$
$B. N^{-} \rightarrow N$ $Q. {\text{ઉષ્માક્ષેપક પ્રક્રિયા}}$
$C. O^{-} \rightarrow O^{2-}$ $R. {\text{નીપજમાં નિષ્ક્રિય વાયુ જેવી ઇલેક્ટ્રોન રચના}}$
$D. P \rightarrow P^{-}$ $S. {\text{નીપજમાં અર્ધ}-\text{પૂર્ણ ઇલેક્ટ્રોન રચના}}$
સાચી જોડ છે $:-$

નીચેનામાંથી કયું/કયા વિધાન ખોટું છે?

Difficult
View Solution

નીચે બે વિધાનો આપેલા છે $:$
વિધાન $(I) :$ આઈસોઈલેક્ટ્રોનિક સ્પીસીઝની ત્રિજ્યા $Mg^{2+} < Na^{+} < F^{-} < O^{2-}$ ના ક્રમમાં વધે છે.
વિધાન $(II) :$ હેલોજનની ઈલેક્ટ્રોન ગેઈન એન્થાલ્પીનું મૂલ્ય $Cl > F > Br > I$ ના ક્રમમાં ઘટે છે.
ઉપરોક્ત વિધાનોના પ્રકાશમાં,નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સૌથી યોગ્ય જવાબ પસંદ કરો $:$

$B$,$Al$,$C$,અને $Si$ તત્વો પૈકી,
$(a)$ કયા તત્વની પ્રથમ આયનીકરણ એન્થાલ્પી સૌથી વધુ છે?
$(b)$ કયા તત્વમાં સૌથી વધુ ધાત્વીય ગુણધર્મ છે? દરેક કિસ્સામાં તમારા જવાબનું સમર્થન કરો.

Vedclass Products

For Students

Vedclass Test Series

Mock tests in real JEE/NEET style with performance analysis. 5-day free trial.

Start Free Trial
For Teachers

Exam Paper Generator

Generate Set A/B/C/D exam papers from 7.5L+ questions in 2 minutes. 3 chapters free.

Try Free
For Institutes

Online Exam Module

Live online exams with unlimited students, 360° analytics & white-label branding.

See Demo