આપેલ $TLC$ પ્લેટમાં,બેઝ લાઇનથી સ્પોટ $A$ અને $B$ નું અંતર અનુક્રમે $4 \ cm$ અને $6 \ cm$ છે. બેઝ લાઇનથી સોલ્વન્ટ ફ્રન્ટ દ્વારા કાપેલું અંતર $8 \ cm$ છે. જો $B$ નું $R_f$ મૂલ્ય $A$ ના $R_f$ મૂલ્ય કરતા $x \times 10^{-1}$ ગણું હોય,તો $x$ નું મૂલ્ય શોધો.

મિશ્રણની પાતળા સ્તરની ક્રોમેટોગ્રાફી $(TLC)$ નીચે મુજબનું અવલોકન દર્શાવે છે:
સિલિકા જેલ કોલમ ક્રોમેટોગ્રાફીમાં ઈલ્યુશનનો સાચો ક્રમ કયો છે?

નેપ્થેલીનનું શુદ્ધિકરણ કરવા માટેની રીતનું નામ સૂચવો.

ખાલી જગ્યા પૂરો:
$1$. સૂત્રો અને પ્રતિક્રિયાઓમાં,ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મનું સ્થાનાંતર વક્ર તીર (curved arrow) દ્વારા દર્શાવવામાં આવે છે અને એકલ ઇલેક્ટ્રોનનું સ્થાનાંતર .......... દ્વારા દર્શાવવામાં આવે છે.
$2$. વિભાગીય નિસ્યંદન (fractional distillation) ના સ્તંભોમાં .......... કરતા વધુ પ્લેટો હોય છે.
$3$. વિભાગીય નિસ્યંદનનો ઉપયોગ ઉત્કલન બિંદુમાં .......... તફાવત ધરાવતા પ્રવાહીના અલગીકરણ માટે થાય છે અને સાદા નિસ્યંદનનો ઉપયોગ ઉત્કલન બિંદુમાં .......... તફાવત ધરાવતા પ્રવાહીના અલગીકરણ માટે થાય છે.
$4$. પેટ્રોલિયમમાં ક્રૂડ ઓઈલના વિવિધ અંશોને અલગ કરવા માટે .......... તકનીકનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે.

નીચે બે વિધાનો આપેલા છે:
વિધાન $I$: વિભાગીય નિસ્યંદન (fractional distillation) માં ઊંચા ઉત્કલનબિંદુ ધરાવતા પ્રવાહીની બાષ્પ,નીચા ઉત્કલનબિંદુ ધરાવતા પ્રવાહીની બાષ્પ પહેલાં સંઘનિત થાય છે.
વિધાન $II$: વિભાગીય સ્તંભ (fractionating column) માં ઉપર જતી બાષ્પમાં મિશ્રણના ઊંચા ઉત્કલનબિંદુ ધરાવતા ઘટકનું પ્રમાણ વધે છે.

ખાલી જગ્યા પૂરો :
$(1)$ $.......$ પ્રવાહીનું વરાળ નિસ્યંદન કરવામાં આવે છે અને તે $.........$ તાપમાને ઉકળે છે.
$(2)$ દબાણ ઘટાડીને નિસ્યંદન કરવા માટે $.........$ અને $........$ નો ઉપયોગ થાય છે.
$(3)$ વરાળ નિસ્યંદનમાં કુલ બાષ્પ દબાણનું સમીકરણ $P = p_1 + p_2$ છે,જ્યાં $p_1$ એ $...........$ કરતા વધારે હોય છે.
$(4)$ વિભેદક નિષ્કર્ષણ (differential extraction) માં $.........$ સાધનનો ઉપયોગ થાય છે.