एकल स्लिट विवर्तन प्रयोग में, स्लिट की चौड़ाई कम कर दी जाती है। तो मुख्य उच्चिष्ठ (principal maxima) की रैखिक चौड़ाई पर क्या प्रभाव पड़ेगा?

$6000 \text{ Å}$ तरंगदैर्ध्य का एकवर्णी प्रकाश $0.01 \text{ mm}$ चौड़ाई की एक एकल स्लिट पर आपतित होता है। यदि विवर्तन पैटर्न $20 \text{ cm}$ फोकस दूरी वाले उत्तल लेंस के फोकस पर बनता है, तो केंद्रीय उच्चिष्ठ की रैखिक चौड़ाई क्या होगी ($\text{ mm}$ में)?

$0.1 \, \mu m$ व्यास वाले पिनहोल पर आपतित सूर्य के प्रकाश से प्राप्त विवर्तन पैटर्न पर विचार करें। यदि पिनहोल का व्यास थोड़ा बढ़ा दिया जाए,तो यह विवर्तन पैटर्न को इस प्रकार प्रभावित करेगा:

$0.02\, cm$ चौड़ाई वाले एक रैखिक द्वारक (aperture) को $60\, cm$ फोकस दूरी वाले लेंस के ठीक सामने रखा गया है। द्वारक को $5 \times 10^{-5}\, cm$ तरंगदैर्ध्य वाले समानांतर पुंज द्वारा लंबवत रूप से प्रकाशित किया जाता है। विवर्तन पैटर्न (diffraction pattern) की पहली अदीप्त बैंड (dark band) की स्क्रीन के केंद्र से दूरी .....$cm$ है।

एक-स्लिट विवर्तन प्रयोग में केंद्रीय उच्चिष्ठ (central maximum) की कोणीय चौड़ाई और रैखिक चौड़ाई के लिए सूत्र प्राप्त कीजिए।

एकल स्लिट पर विवर्तन पैटर्न (diffraction pattern) के केंद्रीय उच्चिष्ठ की चौड़ाई किस पर निर्भर नहीं करती है?