एक अर्धचालक $p-n$ डायोड में,$p$-पक्ष और $n$-पक्ष पर डोपिंग सांद्रता क्रमशः $10^{15} \text{ atoms/cm}^3$ और $10^{18} \text{ atoms/cm}^3$ है। निम्नलिखित में से कौन सा कथन सत्य है?

  • A
    इंटरफ़ेस के दोनों ओर अवक्षय परत (depletion region) की चौड़ाई समान होती है
  • B
    $n$-पक्ष की तुलना में $p$-पक्ष पर अवक्षय परत की चौड़ाई अधिक होती है
  • C
    $p$-पक्ष की तुलना में $n$-पक्ष पर अवक्षय परत की चौड़ाई अधिक होती है
  • D
    $p$ और $n$-पक्षों पर असमान डोपिंग सांद्रता के कारण कोई अवक्षय परत नहीं बनती है

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चित्र में अग्र अभिनति (forward bias) में एक $p-n$ जंक्शन डायोड की $I-V$ विशेषताएँ दिखाई गई हैं। क्रमशः $2 \; V$ और $4 \; V$ के अग्र अभिनति वोल्टेज के अनुरूप गतिशील प्रतिरोध (dynamic resistance) का अनुपात क्या है?

निम्नलिखित वाक्यों में से कौन सा कथन गलत है? एक उपकरण जिसमें $P$ और $N$-प्रकार के अर्धचालकों का उपयोग किया जाता है,वह वैक्यूम ट्यूब की तुलना में अधिक उपयोगी है क्योंकि:

$PN-$जंक्शन के फॉरवर्ड बायसिंग के मामले में,निम्नलिखित में से कौन सा चित्र वाहकों के प्रवाह की दिशा को सही ढंग से दर्शाता है?

$621 \ nm$ तरंगदैर्ध्य के एकवर्णी प्रकाश में एक फोटॉन की ऊर्जा एक अर्धचालक पदार्थ के बैंड गैप से मेल खाती है। तो अर्धचालक से एक इलेक्ट्रॉन-होल युग्म बनाने के लिए आवश्यक न्यूनतम ऊर्जा है
[लें $hc = 1242 \ eV-nm$,जहाँ $h$ प्लांक नियतांक है और $c$ निर्वात में प्रकाश की गति है] ($eV$ में)

एक प्रयोग में,डायोड में प्लेट धारा की संतृप्ति (saturation) $240\,V$ पर देखी जाती है। लेकिन एक छात्र अभी भी प्लेट धारा को बढ़ाना चाहता है। यह किया जा सकता है,यदि

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