નીચેના સંયોજન માટે ઇનોલ (enol) ટકાવારી મહત્તમ છે:

$C-Cl$ બંધના વિષમ વિભાજન (Heterolysis) થી શું ઉત્પન્ન થાય છે?

નીચેની વિલોપન પ્રક્રિયામાં મુખ્ય નીપજ તરીકે બનતો આલ્કીન કયો છે?

નીચેના વિધાનો માટે સાચું કે ખોટું જણાવો:
$(i)$ સહસંયોજક બંધના હોમોલિટીક વિભાજન દ્વારા ધન અને ઋણ આયનો બને છે.
$(ii)$ સહસંયોજક બંધના હેટરોલિટીક વિભાજન દ્વારા ધન અને ઋણ આયનો બને છે.
$(iii)$ $CH_3-Cl$ ના $C-Cl$ બંધમાં માત્ર હોમોલિટીક વિભાજન શક્ય છે.
$(iv)$ જો બંધનું હેટરોલિટીક વિભાજન થાય,તો તેમાં આયનીય અથવા ધ્રુવીય પ્રકારની પ્રતિક્રિયાઓ થાય છે.

ઉપરની પ્રક્રિયામાં,ઇલેક્ટ્રોફાઇલ માત્ર મેટા સ્થાન પર જ વિસ્થાપિત થાય છે,તેનું કારણ છે:
$I$. ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા ઓર્થો અને પેરા સ્થાન પર વધુ છે
$II$. ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા ઓર્થો અને પેરા સ્થાન પર પ્રમાણમાં ઓછી છે
$III$. ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા મેટા સ્થાન પર ઓછી છે
$IV$. ઇલેક્ટ્રોન ઘનતા મેટા સ્થાન પર પ્રમાણમાં વધુ છે
સાચો જવાબ છે:

આપેલ સંયોજનમાં,$CH_3O^{-}$ ના હુમલા માટે કેટલી સાઇટ્સ ઉપલબ્ધ છે?