$4.0 \ eV$ कार्य फलन वाली धातु के लिए देहली तरंगदैर्ध्य (threshold wavelength) $nm$ में कितनी होगी?

$P$ शक्ति के स्रोत द्वारा उत्सर्जित $\lambda$ तरंगदैर्ध्य के फोटॉन एक फोटोसेल पर आपतित होते हैं। यदि सेल में उत्पन्न धारा $I$ है,तो फोटोसेल में धारा उत्पन्न करने वाले आपतित फोटॉनों का प्रतिशत क्या है? (जहाँ $h$ प्लांक नियतांक है और $c$ निर्वात में प्रकाश की गति है)

यदि किसी फोटोमेटल का कार्य फलन (work function) $6.825 \; eV$ है,तो इसकी देहली तरंगदैर्ध्य (threshold wavelength) ............. $\mathring A$ होगी $(c = 3 \times 10^8 \; m/s)$।

नीचे दो कथन दिए गए हैं:
कथन $I$: प्रकाश-विद्युत प्रभाव में निरोधी विभव (stopping potential) प्रकाश स्रोत की शक्ति पर निर्भर नहीं करता है।
कथन $II$: किसी दी गई धातु के लिए,फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गतिज ऊर्जा आपतित प्रकाश की तरंगदैर्घ्य पर निर्भर करती है।
उपरोक्त कथनों के आलोक में,नीचे दिए गए विकल्पों में से सबसे उपयुक्त उत्तर चुनें।

टंगस्टन पर सीज़ियम की बनी एक प्रकाश-संवेदी सतह को नियॉन बल्ब से $640.2 \ nm$ $(1 \ nm = 10^{-9} \ m)$ तरंगदैर्घ्य के एकवर्णी विकिरण द्वारा प्रकाशित किया जाता है। मापा गया निरोधी विभव (stopping potential) $0.54 \ V$ है। यदि स्रोत को बदलकर उसी फोटोसेल को $427.2 \ nm$ की रेखा द्वारा प्रकाशित किया जाए,तो नया निरोधी विभव कितने $V$ होगा?

एक फोटोइलेक्ट्रिक सेल को परिवर्तनीय विभवांतर के स्रोत से जोड़ा जाता है और परिणामी फोटोइलेक्ट्रिक धारा $(\mu A)$ को आरोपित विभवांतर $(V)$ के विरुद्ध आलेखित किया जाता है। टूटी हुई रेखा वाला ग्राफ आपतित विकिरण की एक दी गई आवृत्ति और तीव्रता के लिए एक स्थिति का प्रतिनिधित्व करता है। यदि आवृत्ति बढ़ाई जाती है और तीव्रता कम की जाती है,तो निम्नलिखित में से कौन सा अखंड रेखा वाला ग्राफ नई स्थिति का प्रतिनिधित्व करता है?