નીચેનામાંથી કઈ ધાતુ એસિડ અથવા $H_2O$ માંથી $H_2$ ને મુક્ત કરી શકતી નથી?

ડેનિયલ કોષ માટે પ્રમાણિત ઇલેક્ટ્રોડ પોટેન્શિયલ $1.1 \, V$ છે. પ્રક્રિયા માટે પ્રમાણિત ગિબ્સ મુક્ત ઊર્જાની ગણતરી કરો:
$Zn_{(s)} + Cu^{2+}_{(aq)} \rightarrow Zn^{2+}_{(aq)} + Cu_{(s)}$

આપેલ $E_{Cu^{2+}/Cu}^{\circ} = 0.34 \ V$ અને $E_{Cu^{2+}/Cu^{+}}^{\circ} = 0.15 \ V$ હોય,તો $E_{Cu^{+}/Cu}^{\circ}$ નું પ્રમાણિત ધ્રુવ પોટેન્શિયલ $V$ માં શોધો.

જો $(Ni_{(aq)}^{+2} \mid Ni_{(s)})$ અને $(Al_{(aq)}^{+3} \mid Al_{(s)})$ ના પ્રમાણિત રિડક્શન પોટેન્શિયલ $(E^{\circ})$ અનુક્રમે $-0.25 \ V$ અને $-1.66 \ V$ હોય,તો કોષ પ્રક્રિયા $2 \ Al_{(s)} + 3 \ Ni_{(aq)}^{+2} \rightarrow 2 \ Al_{(aq)}^{+3} + 3 \ Ni_{(s)}$ નો પ્રમાણિત $emf$ કેટલો થશે?

પ્રમાણિત હાઇડ્રોજન ઇલેક્ટ્રોડનો ઓક્સિડેશન અને રિડક્શન પોટેન્શિયલ કેટલો છે?

વિધાન : કોપર $HCl$ સાથે પ્રક્રિયા કરે છે અને હાઇડ્રોજન મુક્ત કરે છે.
કારણ : સક્રિયતા શ્રેણીમાં હાઇડ્રોજન $Cu$ ની ઉપર આવેલું છે.