લીથાર્જ $(PbO)$ નો ઉપયોગ સામાન્ય રીતે નીચેનામાંથી શેમાં થતો નથી?

ફ્યુઅલ સેલના ઇલેક્ટ્રોડ્સ પર $Pt$ અને $Pd$ ના ઝીણા વિભાજિત કણોનું પડ શા માટે આપવામાં આવે છે?

પ્રક્રિયા $\frac{1}{2} H_{2(g)} + AgCl_{(s)} \rightarrow H_{(aq)}^{+} + Cl_{(aq)}^{-} + Ag_{(s)}$ નીચેનામાંથી કયા ગેલ્વેનિક કોષમાં થાય છે?

ડેનિયલ કોષના ઉદાહરણ સાથે ઇલેક્ટ્રોડની રેડોક્ષ પ્રક્રિયા સમજાવો.

નીચે બે વિધાનો આપેલા છે: એકને વિધાન $A$ અને બીજાને કારણ $R$ તરીકે લેબલ કરવામાં આવ્યું છે.
વિધાન $A$: સમીકરણ $\Delta_r G = -nFE_{\text{cell}}$ માં $\Delta_r G$ નું મૂલ્ય $n$ પર આધાર રાખે છે.
કારણ $R$: $E_{\text{cell}}$ એ તીવ્ર ગુણધર્મ (intensive property) છે અને $\Delta_r G$ એ વિસ્તૃત ગુણધર્મ (extensive property) છે.
ઉપરોક્ત વિધાનોના પ્રકાશમાં,નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો:

વિધાન: મર્ક્યુરી સેલનો કોષ પોટેન્શિયલ $1.35 \ V$ છે,જે અચળ રહે છે.
કારણ: મર્ક્યુરી સેલમાં,ઇલેક્ટ્રોલાઇટ $KOH$ અને $ZnO$ ની પેસ્ટ છે.